富士軟片開發含金屬光阻，提升蝕刻耐性與量產相容性
日本富士軟片(FUJIFILM)開發出在化學增幅型光阻(CAR)中導入金屬之新型金屬含有型光阻(Metal Containing Resist; MCR)，期藉由部分金屬成分提升極紫外光(EUV)的吸收效率與蝕刻耐性。此外，富士軟片也推出適用於旋轉塗佈(Spin Coat)製程的奈米壓印微影(NIL)用光阻，並以薄膜型聚醯亞胺(PI)材料切入先進封裝領域，鎖定中介層(Interposer)、重佈線層(RDL)以及增層薄膜(BUF)等應用需求。目前富士軟片的半導體材料產品涵蓋光阻、高純度化學品、化... [詳細]