朝向虛擬實驗室:基於代理模型的SiC晶體成長爐即時熱場模擬與數位轉型

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碳化矽(Silicon Carbide; SiC)因具備高擊穿電場、高熱導率與高溫操作能力,已成為電動車、再生能源與高功率元件的重要材料,其單晶基板多仰賴物理氣相傳輸法(Physical Vapor Transport; PVT)生長。然而,PVT長晶爐內部環境高溫且密閉,製程過程如同黑盒子,難以直接觀測熱場與氣相分布,因此製程優化常需仰賴大量試誤與長時間模擬

 無法正常瀏覽內容,請點選此線上閱讀        2026 . 7 . 1  出刊     取消訂閱
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  【工業材料雜誌】 朝向虛擬實驗室:基於代理模型的SiC晶體成長爐即時熱場模擬與數位轉型
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工業材料雜誌
    朝向虛擬實驗室:基於代理模型的SiC晶體成長爐即時熱場模擬與數位轉型

碳化矽(Silicon Carbide; SiC)因具備高擊穿電場、高熱導率與高溫操作能力,已成為電動車、再生能源與高功率元件的重要材料,其單晶基板多仰賴物理氣相傳輸法(Physical Vapor Transport; PVT)生長。然而,PVT長晶爐內部環境高溫且密閉,製程過程如同黑盒子,難以直接觀測熱場與氣相分布,因此製程優化常需仰賴大量試誤與長時間模擬,研發效率受限。本文以COMSOL Multiphysics®建立SiC PVT長晶爐多物理場模型,聚焦電磁加熱、熱傳導、熱輻射與多孔介質氣相傳輸等機制,並結合拉丁超立方抽樣與代理模型進行快速預測。透過此流程,可將原本需耗費數小時至數天的高精度模擬縮短為秒級輸出,協助工程師快速探索參數組合、評估製程風險並進行條件最佳化。此一方法可作為建構虛擬實驗室的基礎,進一步支援SiC晶體生長的數位轉型與研發加速 ---《本文節錄自「工業材料雜誌」474期,更多資料請點選 MORE 瀏覽》
 
 
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