二月號《工業材料雜誌》推出「氫氟酸資源回收與再生技術」與「氫能設施發展技術及產業趨勢」兩大專題

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國內半導體產業,每年產生約99.9萬公噸廢棄物,其中含氟廢棄物約占20%以上

 無法正常瀏覽內容,請點選此線上閱讀         2025. 2. 5 出刊    取消訂閱
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工業材料雜誌
  二月號《工業材料雜誌》推出「氫氟酸資源回收與再生技術」與「氫能設施發展技術及產業趨勢」兩大技術專題

我國半導體產業,全球市占率高達60%,是科技產業的重要支柱。國內半導體產業,每年產生約99.9萬公噸廢棄物,其中含氟廢棄物約占20%以上。含氟廢棄物若未妥善處理,將對環境造成巨大衝擊,並使產業永續發展面臨嚴峻考驗。因此,啟動氫氟酸資源回收與再生技術,落實低碳循環布局,已是當務之急。透過導入高值化技術與完善的回收再利用系統,不僅能有效減輕環境負擔,更能提煉高純度再生資源,推動關鍵資源自主化與永續高值化發展,打造符合未來需求的循環經濟體系。半導體、面板、太陽能電池、LED等電子業皆 ---《欲知更多精彩的二月號「工業材料雜誌」478期內容簡介,請點選 MORE 瀏覽》
 
 
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工業材料雜誌
  廢氫氟酸資源再利用之碳足跡分析

國內缺乏氟礦資源,每年進口約6萬噸氫氟酸以滿足科技業的需求,使用後的廢棄物目前以降階或異業再利用等方式進行去化處理,可再利用製成工業級氫氟酸、氟矽酸鈉、冰晶石(氟鋁酸鈉)、人工螢石(CaF2純度>75%)等。本文研究再利用的製程及產品的生命週期,藉由數據收集及碳排係數資料庫進行碳足跡計算評估。而全球約97%的氫氟酸是由天然酸級螢石(CaF2純度>97%)製造生產,本文也針對工研院開發氟化鈣污泥轉製再生酸級螢石的技術進行碳足跡分析,並介紹如何透過製程改善優化碳足跡,落實減碳效益之目標,並有助未來產業推動 ---《本文節錄自「工業材料雜誌」458期,更多資料請點選 MORE 瀏覽》
 
 
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