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面板製程用酸性蝕刻液之高純度再生技術

面板製程所使用之鋁蝕刻液為磷酸／硝酸／醋酸混酸體系，在蝕刻過程中會累積高濃度鋁與其他微量金屬離子，導致蝕刻速率與均勻性波動，最終影響良率。面板蝕刻液回用須同時滿足高通量處理、多金屬共存、混酸比例穩定及電子級品質匹配等多重技術要求，屬高度整合型技術。本文提出耐強酸高分子吸附材料之高純度再生技術，可有效去除鋁金屬污染物，初步驗證具備產線回用潛力，期望可協助面板產業由末端處理邁向源頭循環，實現成本優化與低碳轉型之雙重目標... [詳細]

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