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創新低溫N₂O觸媒處理技術

隨著製程技術演進,半導體產業逐步擴大採用N₂O作為薄膜製程氣體,然而殘餘之N₂O在多數廠務端仍面臨去除效率不佳之挑戰。另半導體製程尾氣常伴隨多種共存氣體與副產物,使尾氣處理難以兼顧高去除效能與低能耗,因此目前多採高溫處理系統。為達成高效與低能耗之目標,本文以實務導入為導向,提出「分流+分段模組」之創新架構,用於N₂O製程尾氣處理;除可將N₂O有效轉化為N₂與O₂,亦可同步去除其他尾氣成分(如NF₃、HF),提供一套系統性、... [詳細]

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