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半導體用光酸材料技術

半導體產業是全球關鍵技術之一，應用範圍廣泛。為了達到高密度的IC電路布局及減小產品體積，半導體尺寸急速縮小，晶圓上的線路亦隨之微縮。在先進半導體製程技術中，顯影製程為相當重要的一個步驟，影響著線路圖案化的精細程度，而光阻在微影製程中扮演關鍵的角色。光阻藉由光敏感劑於曝光後產生化學變化，影響顯影過程中的圖案形成。光阻劑配方由樹脂、光酸、溶劑以及微量的添加劑所組成，其中光酸雖然用量相對較少，但光酸的特性直接影響顯影後的圖案化效果，是半導體製...... [詳細]

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