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粒徑100 nm銅粉可望取代銀粉,成為新一代半導體接合材料

目前逐步實現量產的SiC以及研究開發持續推進的氮化鎵(GaN)等次世代功率半導體,由於高電壓與大電流驅動,其工作溫度往往超過200℃。因此接合材料必須具備優異的熱安定性與散熱性,目前主要使用由銀粉與溶劑混合而成的材料。相較之下,銅類接合材料雖具有高於銀的熔點與導熱率,並能降低成本,但因易於氧化、在大氣中難以處理的特性,故仍有技術課題待解決。住友金屬鑛山開發的耐氧化奈米銅粉不僅在大氣環境下容易操作,且具備約在200℃即可展開燒結的低溫燒結...... [詳細]

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