JSR開發兩項創新型半導體材料，透過「塗佈」形成絕緣膜或多孔質膜
日本JSR開發了兩項具創新概念的半導體材料。其一為「奈米片分散液」，只須塗佈即可簡便形成絕緣膜或保護膜，具有縮短製程、降低環境負荷的優點，預期可部分取代化學氣相沉積法(CVD)與原子層沉積法(ALD)等成膜製程。另一項則為「塗布型有機多孔質膜」，藉由多孔狀結構帶來的優異電氣特性，可望應用於低介電層間絕緣膜、基板材料等領域。奈米片的厚度小於1 nm，寬度則可控制在數百nm至μm等級。透過改變奈米片的種類，將可實現多樣化的性能表現... [詳細]