次世代封裝製程:PSPI製程殘餘材料回用技術之開發與驗證

  • 字級

本研究開發PSPI製程殘餘材料之循環回用技術,發展結合吸附式過濾與低熱負載變溫壓控之物理式純化流程,可在不改變材料配方與分子結構的前提下有效去除污染物,使純化後材料回復至原廠規格

 無法正常瀏覽內容,請點選此線上閱讀        2026 . 6 . 3  出刊     取消訂閱
回「材料世界網」首頁
  【工業材料雜誌】次世代封裝製程:PSPI製程殘餘材料回用技術之開發與驗證
【材料News】突破高溫限制,Pd氫氣透過膜實現100℃低溫高效率運作
【研討會】技術領航~ 2026 微奈米粒徑分析技術論壇:光散射與雷射繞射的關鍵數據解析
 
工業材料雜誌
   次世代封裝製程:PSPI製程殘餘材料回用技術之開發與驗證

感光型聚醯亞胺(Photosensitive Polyimide; PSPI)具備優異的熱機械性能與可直接光蝕刻成型特性,已為再佈線層(RDL)與鈍化層之關鍵材料。而PSPI旋轉塗佈製程中的材料利用率偏低,約有 30%以上為殘餘料,造成高價材料損耗。本研究開發PSPI製程殘餘材料之循環回用技術,發展結合吸附式過濾與低熱負載變溫壓控之物理式純化流程,可在不改變材料配方與分子結構的前提下有效去除污染物,使純化後材料回復至原廠規格。凝膠滲透層析法(Gel Permeation Chromatography; GPC)分析顯示純化前後分子量分布無顯著差異,證實純化過程未造成高分子鏈裂解或交聯。本技術不僅可提升PSPI材料利用率並降低高價材料成本,同時減少化學廢棄物產生,為半導體與電子產業推動綠色製造與循環經濟提供可行解決方案 ---《本文節錄自「工業材料雜誌」473期,更多資料請點選 MORE 瀏覽》
 
 
【技術領航】2026 微奈米粒徑分析技術論壇:光散射與雷射繞射的關鍵數據解析
 
材料NEWS
   突破高溫限制,Pd氫氣透過膜實現100℃低溫高效率運作
 PFAS污染溯源新方法,碳同位素比分析應用
 TORAY推出新型PFAS-Free離型材料,佈局面板級封裝市場
 光控分解高分子材料實現「開關式」控制,兼顧耐久性與可降解性
 產收率翻倍,新觸媒實現高效率SAF製造
 日本材料技研開發新型負熱膨脹材料,覆蓋40℃~150℃寬溫域
 新型螢光染料實現極端酸性穩定發光,具化學感測與材料分析應用潛力
 Sumitomo Bakelite開發CTI 900粉體塗料,強化高壓絕緣應用
 
 
【工業技術研究院】微結構與特性分析研究室 【工業技術研究院】混合分散技術應用平台 【工業技術研究院】電鏡技術開發與應用研究室
 
亮點技術
   熔射覆膜技術&直接雷射沉積技術
 鋁合金半固態成形材料與製程技術&高性能銅銀合金/銅石墨稀複材製程技術&高效流化床氫基直接還原
     鐵技術

 
特用合金粉末試量產/ 驗證技術平台&永磁磁石粉末開發與試量產技術&電弧爐低碳技術開發驗證平台
 複合材料低碳回收全循環技術
 CVD SiC 全披覆鍍膜技術
 複合金屬箔&用於高頻基板─無粗化銅箔之底漆層技術&塗佈型PTFE 基板材料
 管線智慧洩漏監測技術(LDS)
 推廣地下管線AI 檢漏系統,落地應用,產業安全維運&遙距影音智能風機葉片劣化診斷預警系統
 
研討會專區
    日本環氧樹脂4天系統化解析
  紡織廢棄物再生技術實務班
  【技術領航】2026 微奈米粒徑分析技術論壇:光散射與雷射繞射的關鍵數據解析
  奈米技術發展與商機研討會
  日本ABF與BT樹脂載板材料之低翹曲製程
  CPO關鍵技術及其對應解法
  日本AI 無人機與反無人機技術
 
【工研精品—鳳梨多酚胺基酸潔顏乳】
電子報內容均屬於「材料世界網」所有,禁止轉載或節錄。
若您對電子報有任何意見,歡迎指教。
材料世界網首頁會員中心 聯絡我們廣告業務 │訂閱推薦訂閱 │取消訂閱