次世代EUV帶來半導體光阻開發挑戰，日化學企業加速展開新材料佈局:材料世界網電子報

無法正常瀏覽內容，請點選此線上閱讀

2025. 4. 14 出刊

取消訂閱

【材料最前線】次世代EUV帶來半導體光阻開發挑戰，日化學企業加速展開新材料佈局

【工業材料雜誌】高深寬比材料於防窺片上的應用

【材料News】神奈川大學利用亞臨界水溶液完全分解氟樹

【研討會】細胞治療研發工程師認證班(第6梯)

次世代EUV帶來半導體光阻開發挑戰，日化學企業加速展開新材料佈局

光阻劑是半導體晶片製造必不可少的感光材料，近30年來迎來了第一次的技術轉折點，預期2027年左右開始量產的次世代極紫外光(EUV)曝光用途方面，很有可能會導入以完全不同於既有材料製成的光阻劑。JSR、東京應化工業等日本5家化學企業合計占有全球90%市場，也展開了開發競爭，未來光阻劑產業的勢力消長或將改變。在2~3年之內，金屬氧化物光阻劑(MOR)可望取代化學增幅型光阻劑(CAR)，除了有高度可能性導入於使用EUV曝光製造的先進邏輯半導體中，亦可望使用於DRAM。另外，住友化學積極投入名為有機小分---《本文節錄自「材料最前線」專欄（編譯：范淑櫻），更多資料請點選 MORE 瀏覽》

高深寬比材料於防窺片上的應用

車用防眩光薄膜在資訊隱私及駕駛安全的兼顧上日漸受到重視。傳統防眩光薄膜受限於製程技術，難以同時達到防眩效果與顯示性能的優化。藉由高深寬比材料技術的應用，為光學結構設計帶來高度彈性，不僅能在微米尺度實現精細線路結構，更提供材料微結構多元化設計空間，進而有效提升防眩效果並改善顯示性能。工研院材化所開發之高深寬比光阻材料，其特性包括：具低曝光量、高光學密度、高附著性、高耐化與高耐熱性，深寬比大於2:1，提升防窺效果並改善顯示器畫質。此外，材化所亦針對樹脂材料進行改質，使其具備高感度、高解析---《本文節錄自「工業材料雜誌」460期，更多資料請點選 MORE 瀏覽》

神奈川大學利用亞臨界水溶液完全分解氟樹脂
甲烷轉換甲醇之高效率合成新手法
 利用水屏蔽太空輻射的太空衣製造技術
村田製作所成功實現LiB電極溫度變化的「原位」觀察
岡山大學等利用多孔質碳提高鋁離子電池放電容量
 LG化學將開始量產無需前驅物之鋰離子電池正極材料
MPICI開發出1,500次循環後仍可維持80%充電容量之鈉硫電池
同志社大學開發出適用於EV、電子設備之阻燃性準固態鋰離子電池
利用液晶反射板反射毫米波，促建築物之間的廊道轉變為大容量通信區域
在約400℃的溫度變化下仍能展現超彈性特性之輕量形狀記憶合金