近年全球紡織產業受到淨零碳排、PFAS禁限用、生質材料及循環經濟等永續趨勢影響，機能性紡織品已由過去單純追求產品性能，逐漸朝向低碳製造、綠色化學及智慧製程整合發展 無法正常瀏覽內容，請點選此線上閱讀 2026 . 10 . 21 出刊 取消訂閱 【工業材料雜誌】低碳練染同步異質機能化學品開發【材料News】CrSb晶體方位控制自旋轉矩，開拓次世代自旋電子元件【研討會專區】115年度化合物半導體與元件化材料推動計畫成果分享會 低碳練染同步異質機能化學品開發 ■ 練染同步之未來發展近年全球紡織產業受到淨零碳排、PFAS禁限用、生質材料及循環經濟等永續趨勢影響，機能性紡織品已由過去單純追求產品性能，逐漸朝向低碳製造、綠色化學及智慧製程整合發展。對於染整產業而言，如何在維持染色品質及加工效率的同時，降低能源消耗、水資源使用及化學品環境衝擊，已成為未來技術發展的重要方向。練染同步技術透過整合精練與染色程序，可有效降低製程步驟、縮短加工時間，並減少蒸汽、水資源及廢水排放，是目前最具代表性的低碳染整技術之一。然而，隨著細丹尼龍、高彈性混紡纖維及色紗前染產品快速發展，傳統以單一界面活性劑為主之精練化學品，已難以同時兼顧除油效率、染色均勻性及多元加工油控制能力。因此，界面活性劑之設計理念亦逐漸由單一乳化作用，提升至多元界面調控（Multi-interfacial Regulation）之技術平台，透過不同界面作用機制之協同設計，以兼顧快速潤濕、油污乳化、再沉積抑制及染色均勻性等多項加工需求 ---《本文節錄自「工業材料雜誌」477期，更多資料請點選 MORE 瀏覽》 CrSb晶體方位控制自旋轉矩，開拓次世代自旋電子元件 SCSC高溫超導電纜，交流損耗降至預測值約1/10 雷射局部退火破解高溫難題，矽光子光學隔離器實現單晶片整合 KH Neochem擴大EUV光阻高純度溶劑布局 Kuraray佈局半導體水資源循環與高效儲能材料 ALD-Al2O3實現無空洞晶圓接合，降低3D積體製程複雜度 光異構化驅動界面切換，實現無殘膠剝離與基材回收 350 nm高精度轉印與65 nm超穎光學，AR光波導量產技術突破 晶圓保護與暫固膠材 高無機含量高樹枝狀矽氧樹&鈣鈦礦材料驗證平台 柔性基板材料技術&可變電容材料技術 Class 100 高精準薄膜塗佈技術 金屬配位ALD前驅物&ALD製程鍍膜 高應力吸收光學膠捲材 功能性壓克力單體開發&DUV 驗證平台 微結構與特性分析實驗室 化學產業低碳循環與智慧製程研討會 日本Chiplet翹曲、CPO矽光子、HBM＋HBF，先進封裝技術與供應鏈最新趨勢 日本glass core載板及CPO應用 日本環氧樹脂4天系統化解析 新型光阻劑測試實務，與去除光阻 日本ABF與BT樹脂載板材料之低翹曲製程 CPO關鍵技術及其對應解法 115年度化合物半導體與元件化材料推動計畫成果分享會 電子報內容均屬於「材料世界網」所有，禁止轉載或節錄。若您對電子報有任何意見，歡迎指教。材料世界網首頁 │會員中心 │聯絡我們│廣告業務 │訂閱│推薦訂閱 │取消訂閱