日本NTT Advanced Technology (NTT-AT)與奧地利奈米壓印微影(NIL)設備大廠EV Group (EVG)宣布，已驗證NTT-AT高折射率樹脂與EVG奈米壓印製程的組合，可應用於擴增實境(AR)光學元件光波導的量產，並具備量產所需的高圖案保真度、連續轉印性及耐環境性。此次以NTT-AT開發的高折射率樹脂NH762，搭配EVG「SmartNIL」製程及「EVG NIL UV/AS5」設備進行評估。結果顯示，可高精度轉印350 nm線寬/間距(L/S)結構，並能良好形成45度傾斜式繞射光柵與最小65 nm的超穎光學(Meta-optics)元件，且未出現明顯缺陷或變形。
在連續轉印測試中，使用EVG NIL UV/AS5進行25次連續轉印，圖案高度變化僅約2.2%，顯示材料具備良好的尺寸穩定性與脫模性。此外，經高溫高濕與光照試驗後，轉印結構仍維持高度穩定，證實NH762具備AR光波導材料所需的耐環境性能。此項研究成果建立了高折射率樹脂與奈米壓印量產製程的整合方案，可縮短AR光學元件業者在材料選擇與初期製程開發的時間，加速量產導入。未來將進一步評估其他高折射率樹脂，並拓展至次世代超穎光學元件、LiDAR高精度感測器及感測元件等應用。