丙烯酸酯於前段光阻之應用

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隨著半導體製程節點推進,微影技術對光阻材料提出更高挑戰。早期光阻依賴苯酚類聚合物,但在短波長下逐漸受限,因而轉向化學增幅型光阻。丙烯酸酯憑藉高度分子結構設計能力,能透過官能基修飾有效控制酸擴散、降低線邊粗糙度,並提升感度與解析度

 無法正常瀏覽內容,請點選此線上閱讀         2025. 11.12 出刊    取消訂閱
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  【工業材料雜誌】丙烯酸酯於前段光阻之應用
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工業材料雜誌
  丙烯酸酯於前段光阻之應用

隨著半導體製程節點推進,微影技術對光阻材料提出更高挑戰。早期光阻依賴苯酚類聚合物,但在短波長下逐漸受限,因而轉向化學增幅型光阻。丙烯酸酯憑藉高度分子結構設計能力,能透過官能基修飾有效控制酸擴散、降低線邊粗糙度,並提升感度與解析度,同時具備優異成膜性與溶解性,適用於先進旋轉塗佈製程。其應用不僅限於光阻主體,亦廣泛用於底部抗反射塗層,藉由分子修飾調整光學性質並改善界面附著力,進一步提升圖形精度。在EUV時代,雖然面臨高吸收與殘碳等挑戰,丙烯酸酯仍展現靈活應對潛力,不僅是光阻樹脂的基礎,更是推動微影材料持續創新的核心元素 ---《本文節錄自「工業材料雜誌」467期,更多資料請點選 MORE 瀏覽》
 
 
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