本文主要說明過去兩年工研院材化所TEM 團隊在穿透式電子斷層掃描顯像技術(TEM Tomography)之開發成果，並詳細說明穿透式電子斷層掃描顯像技術之基本原理與其常見之Missing Wedge問題。同時也展現本團隊與京都大學長谷川博一教授實驗室共同合作，引進先進之穿透式電子斷層掃描顯像技術應用在高分子奈米複材之三維結構解析之成果，詳述Golden Marker 校正法、雙傾轉軸影像紀錄技術與影像雜訊消除法在電子斷層掃描顯像技術訊息遺漏問題之應用與改善，並透過案例介紹，說明目前穿透式電子斷層掃描顯像技術在高分子奈米複材之研究成果。本文採用雙傾轉軸(Dual-axis)TEM Tomography 分析技術，成功地驗證奈米無機填充物網絡狀的分布結構是提升無機填充物在高分子基材高含量比之主要因素。