電子束表面蒸鍍技術

 

刊登日期:2002/2/5
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電子束蒸鍍是真空蒸鍍技術中的一種主要方法。真空蒸鍍過程是由被蒸鍍材料蒸發,蒸氣原子輸送及其在基體表面凝結成核與成長成膜等過程組合而成。由於被蒸鍍材的熔點有高有低,因此必須採用不同技術來完成其成膜,一般低熔點被鍍材料多採用電阻蒸發方法,而高熔點被鍍材料只有選用高能量密度的電子束蒸發方法。因此,電子束蒸鍍已成為現代鍍膜方法中一種不可或缺的技術了。本文將介紹電子束蒸鍍技術,並將討論其特點、原理、裝置、結構及工業生產中的應用。
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