非晶/ 奈米晶金屬薄膜之研究與發展

 

刊登日期:2004/5/5
  • 字級

本文係探討濺鍍技術於奈米晶銅薄膜、非晶金屬薄膜與高頻磁性薄膜之應用,文中將簡述近年來筆者所發表之重要研究成果,就銅薄膜而言,將含不互溶之鎢與鉬之銅薄膜分別共同沉積於矽基板上,使鎢於銅中形成一非平衡過飽和固溶體,之後將Cu-W Cu-Mo 薄膜由200 800°C之溫度範圍作真空退火,由聚焦離子束FIB)X-ray與二次離子質譜儀(SIMS)觀得微量鎢、鉬添加可抑制再結晶對純銅薄膜之熱穩定性有助益效果。就非晶金屬薄膜而言,一種以高玻璃形成能力之元素為主的非晶相合金薄膜,其係由具有相同化學組成的合金靶材沉積成薄膜形式,再經由退火過程而誘發可以高達十微米以上厚度之廣泛遍佈整個薄膜的部份或全部非晶相。此種可控制之整個薄膜的廣泛非晶相反應有助於調製非晶相對結晶相的比例,方便建立組成結構和薄膜性質之間的關係,進而設計出具有特定性質的薄膜。另外,本文亦將簡介近年來發展迅速的高頻奈米磁性薄膜。

 


分享