矽鍺異質接面雙極性電晶體隨著微波特性的改進與元件製造技術的成熟,已逐漸應用於通訊網路之射頻電路中,又因與CMOS技術間的高度整合性,而成為單一晶片系統(System-on-a-chip)的解決方案之一。本文將介紹矽鍺異質接面雙極性電晶體的基本原理,以及元件的基極與集極之設計方法;同時,針對矽鍺磊晶技術整合於矽雙極性電晶體製程中的方法與可能遭遇之問題,提出一個簡略的說明;最後討論矽鍺BiCMOS之製程技術。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 矽鍺電晶體 矽基奈米元件性能提升之鑰—SiGe應力工程(下) 矽基奈米元件性能提升之鑰—SiGe應力工程(上) 全球首度以非晶矽製造之高效率N型有機電晶體 單電子電晶體 熱門閱讀 廢氫氟酸資源高值化技術(上) 從ISPSD 2024看功率元件領域發展趨勢(上) 下世代產業所需高功能性新材料—電動車用高分子材料 從2024 IFAT看環保技術之現況與趨勢(上) 從ISPSD 2024看功率元件領域發展趨勢(下) 相關廠商 金屬3D列印服務平台 山衛科技股份有限公司 高柏科技股份有限公司 喬越實業股份有限公司 正越企業有限公司 台灣永光化學股份有限公司 桂鼎科技股份有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司 大東樹脂化學股份有限公司 志宸科技有限公司