奈米科技已然成為全世界科技發展的重點之一，它引發本世紀的材料、生化、光電、能源等等技術的革命，人類將可從此一先進科技中獲得巨大的實際效益。本文介紹掃描式探針微影技術在矽質晶片上進行奈米級結構圖案的微影轉換技術。利用原子力顯微鏡之探針對矽質晶片表面進行局部高電場導致氧化的方式，完成奈米結構圖形轉換。目前已成功地利用掃描式探針微影技術的多重像素線掃描方法，來進行電場陽極氧化反應製造出不同線寬大小的奈米氧化層結構，再配合氫氧化鉀非等向性蝕刻系統完成奈米結構圖形轉換的線性控制。目前的製程技術已能精準地控制在20奈米~ 40奈米之間，此一奈米微影技術對於未來奈米科技的研發與應用具有十分重大的意義。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 掃描探針顯微鏡於軟物質與半導體之應用 電性掃描探針顯微鏡 有機薄膜電晶體微結構分析技術開發 新世代場發射穿透式電子顯微鏡應用在工研院奈米檢測研究之概況(上) 奈米科技區域服務網絡──檢測技術建置 熱門閱讀 玻璃基板上TGV的金屬化製程 玻璃成孔技術發展現況 半導體用抗反射層材料 玻璃通孔(TGV)之電鍍銅金屬化處理及其微結構改質 半導體用光酸材料技術 相關廠商 台灣石原產業股份有限公司 金屬3D列印服務平台 高柏科技股份有限公司 喬越實業股份有限公司 廣融貿易有限公司 正越企業有限公司 山衛科技股份有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司 照敏企業股份有限公司 台灣永光化學股份有限公司 桂鼎科技股份有限公司 大東樹脂化學股份有限公司 志宸科技有限公司