掃描探針顯微技術研製矽奈米結構

 

刊登日期:2003/5/20
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奈米科技已然成為全世界科技發展的重點之一,它引發本世紀的材料、生化、光電、能源等等技術的革命,人類將可從此一先進科技中獲得巨大的實際效益。本文介紹掃描式探針微影技術在矽質晶片上進行奈米級結構圖案的微影轉換技術。利用原子力顯微鏡之探針對矽質晶片表面進行局部高電場導致氧化的方式,完成奈米結構圖形轉換。目前已成功地利用掃描式探針微影技術的多重像素線掃描方法,來進行電場陽極氧化反應製造出不同線寬大小的奈米氧化層結構,再配合氫氧化鉀非等向性蝕刻系統完成奈米結構圖形轉換的線性控制。目前的製程技術已能精準地控制在20奈米~ 40奈米之間,此一奈米微影技術對於未來奈米科技的研發與應用具有十分重大的意義。
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