工業材料雜誌九月號推出「新世代構裝材料」及「化工技術於資源循環應用」兩大技術專題

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行動裝置、高效能運算、車載電子及物聯網扮演未來半導體產業四大成長引擎,晶片微型化將是未來構裝技術發展的必要趨勢

 
2020. 9. 7 出刊
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熱門頭條
 

工業材料雜誌九月號推出「新世代構裝材料」及「化工技術於資源循環應用」兩大技術專題

行動裝置、高效能運算、車載電子及物聯網扮演未來半導體產業四大成長引擎。其中高效能、低功率、小尺寸及成本管控已成為產品設計應用共同面臨的挑戰,因此具有高度晶片整合能力的先進構裝技術,將被視為半導體產業發展的重要方向。IDC預估,2017~2022年全球物聯網市場每年會有兩位數的增長,並於2022年突破1兆美元大關。未來全球將有愈來愈多的電子設備、All in One電腦、Notebook、智慧型手機、車載電子、智慧家電等,都會使用到大量的IC晶片,晶片微型化將是未來構裝技術發展的必要趨勢。晶片構裝將朝向TSV製程、3D堆疊構裝等技術發展,目前主要技術為扇出型晶圓級封裝技術( FO WLP/PLP、FI WLP ),且因不同產品特性需求---《欲知更多九月號405期「工業材料雜誌」精彩內容介紹,請點選 MORE 瀏覽》
 
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工業材料雜誌
 

穿隧型異質接面太陽能電池以網印金屬化電極對鈍化接觸之探討

為了改善太陽能電池中載子在金屬及矽晶片接觸接面的復合問題,在兩者的介面處插入適當的鈍化材料可以有效降低載子在介面處的復合效應,提升太陽能電池的光電轉換效率。搭配穿隧氧化層與多晶矽所形成的新穎結構即為穿隧氧化鈍化接觸,穿隧氧化層可以提升元件的開路電壓,而多晶矽薄膜可提供優良接觸功能,且在高溫環境下有著更好的穩定性,適合搭配網印金屬燒結製程。在與網印金屬製程整合中,多晶矽扮演了相當重要的角色。工研院成功利用低壓化學氣相沉積系統沉積出高品質的多晶矽薄膜,iVoc為720 mV、J0為10fA/cm2,並將其整合於元件之中。再配合銀漿製作正/背面電極製程優化,最佳化條件可獲得平均轉換效率最佳達23.2%---《本文節錄自「工業材料雜誌」405期,更多資料請點選 MORE 瀏覽》
 
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