在現代高科技工業中，低壓電漿技術在先進材料製程之應用，已占有相當重要之地位。本文介紹微波電漿原理及目前工業發展中逐漸為主流的平面型可調式表面波共振腔電漿激發結構，利用大面積低溫微波電漿搭配反應氣體如氫氣，可完成工業化半導體產業中之蝕刻清潔、太陽能製程之邊緣蝕刻製程導入，且效果良好。另外，微波氫氣電漿也由工研院成功驗證，其對太陽電池低溫鈍化具有良好增益效果，可提高太陽電池效率，是另一可期待之微波電漿技術應用。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 《工業材料雜誌》八月號「高階半導體鍍膜材料」與「水中有價資源回... 《工業材料雜誌》2024年十一月號推出「光電元件材料溶液製程技術」... TORAY成功開發多重量子井結構半導體奈米線 易溶解於有機溶劑之撓曲奈米石墨烯 兼具超高性能與低成本特性之太陽電池與功率半導體新貼合技術(下) 熱門閱讀 國際固態電路大會 ISSCC 2025：半導體發展趨勢與記憶體運算技術探討(... IEDM 2024前瞻：鐵電記憶體技術發展與半導體趨勢解析 海洋碳捕獲崛起，更有效率且可望轉換出新經濟價值 由2025 NEPCON Japan看低碳樹脂材料與印刷電路板製程技術與應用 日本綜合化學品製造商聚焦EUV，展望半導體材料領域 相關廠商 台灣石原產業股份有限公司 金屬3D列印服務平台 山衛科技股份有限公司 高柏科技股份有限公司 喬越實業股份有限公司 正越企業有限公司 照敏企業股份有限公司 台灣永光化學股份有限公司 桂鼎科技股份有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司 大東樹脂化學股份有限公司 志宸科技有限公司