透明非結晶氧化物半導體及其顯示器應用國際會議紀要

 

刊登日期:2010/3/5
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透明非結晶氧化物半導體及其顯示器應用國際會議“International Workshop on Transparent Amorphous Oxide Semiconductors (TAOS 2010)” 於2010 年1 月25~26 日在日本東京工業大學的SUZUKAKEDAI 校區舉行。此次主要邀請日本、美國、南韓和台灣的企業與各國際知名大學之研究人員與教授,發表透明非結晶氧化物半導體做為驅動“新一代FPD”的TFT材料,而透明非結晶氧化物半導體室溫、低製程溫度與高速化的電子特性優於非結晶Si TFT 的現行面板,且能夠開拓類似軟性顯示器等新應用的可能性。此次會議共邀集了夏普、佳能、日立製作所、NEC 、大日本印刷、凸版印刷、美國惠普(HP)、南韓三星電子(Samsung Electronics)、南韓LG顯示器(LG Display),以及台灣友達光電(AUO)等公司共同對此領域做一論述與討論。


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