元件中原本二維的金屬連接線如果改成較短的三維垂直連接架構設計,將可以大幅地增加元件的效能。三維晶粒的堆疊方式,亦讓不同功能的元件能垂直連接形成一特定功用之產品,並具有高效能、多功與小尺寸的優勢。關鍵技術之一矽垂直導通孔的製程方面,並非使用一般常用的乾蝕刻方式,而是利用雷射鑽孔來達成。對於低腳數與較大間距的元件而言,使用雷射形成矽垂直導通孔具有低製造成本之優勢。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 直接液體冷卻技術之冷板發展趨勢 AI晶片構裝用熱介面材料技術發展 突破散熱極限:新一代 4kW DLC直接液冷散熱解決方案 AI高功率晶片之先進散熱材料與熱管理技術發展 DIC推出新型BMI樹脂產品,拓展低介電材料市場 熱門閱讀 功率半導體元件與散熱技術 寬能隙功率半導體封裝之結構設計與互連技術挑戰 功率半導體之高導熱陶瓷基板材料技術與應用發展 廢氫氟酸轉製冰晶石有價資源化技術 AI世代之次世代功率半導體產業發展 相關廠商 新加坡商英彼克有限公司台灣分公司 台灣石原產業股份有限公司 金屬3D列印服務平台 喬越實業股份有限公司 廣融貿易有限公司 高柏科技股份有限公司 正越企業有限公司 山衛科技股份有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司 桂鼎科技股份有限公司 大東樹脂化學股份有限公司 志宸科技有限公司 照敏企業股份有限公司 台灣永光化學股份有限公司