日本金澤大學與印度理工學院海德拉巴分校(IIT Hyderabad)、英國斯特拉斯克萊德大學(University of Strathclyde)合作，利用由多塊純金屬片組成的獨創旋轉靶材，結合脈衝雷射沉積法(PLD)，成功開發了一項無需高價合金靶材，即可在各類材料表面形成高性能高熵合金薄膜的新技術。
研究團隊聚焦於脈衝雷射沉積法，並構思出無須仰賴高價合金靶材的全新成膜方法。具體而言，研究團隊以構成典型高熵合金「坎特合金(Cantor alloy)」的5種純金屬（鉻、錳、鐵、鈷、鎳）扇形板排列組合成圓盤狀，設計出一款獨特的「旋轉式多重靶材」。
在旋轉靶材的同時進行脈衝雷射照射，產生的多種金屬原子被擊出並到達基板，彼此複雜混合，形成高熵合金薄膜。實驗中已成功在玻璃、鋁、鋼鐵等多種基板上沉積出厚度達數百奈米的薄膜。透過更進一步的斷面分析顯示，薄膜不僅僅是堆積在基板表面，而是透過雷射加速的原子「植入效應(Implantation)」打入基板內部形成。
此外，藉由調整成膜腔內的氣體壓力，可以控制原子的動能，進而精準調整薄膜形成的深度與厚度。此項技術能以低成本、簡便工序製作出與基板緊密結合的高附著性機能性薄膜，為未來材料開發開啟了新的可能性。由於不受基板種類限制，亦適用於各種材料表面的改質。研究團隊也指出，透過調整靶材金屬的種類與組合，將可望創造出具備更多樣化機能的客製化合金薄膜。