蘇建維 / 工研院電光所
前言
ISSCC 2025由IEEE Solid-State Circuits Society (SSCS)主辦。本次會議共吸引2,850名參與者,來自全球316間企業與229間學術機構的專家學者齊聚一堂,透過93%的實體參與與7%的線上參與方式,共同探討固態電路領域的最新技術發展。
本次 ISSCC會議涵蓋多項技術領域,包括:類比與數位電路、記憶體技術、AI 加速器、高速通訊、電源管理、資安技術以及高速線路設計。其中,記憶體技術的發展備受矚目,特別是在SRAM與GAA製程(N2, 18A)的整合,實現更高密度、更低功耗的應用。此外,3D NAND Flash首次突破400層,並達到5.6 Gb/s per pin的IO速度,而Compute-in-Memory (CIM)技術亦有重大突破,SRAM及Gain-Cell CIM現已支援MX、FP、INT多種數據格式,MRAM-CIM亦透過In-Memory 與Near-Memory Computing的混合架構提升計算效率與噪聲耐受度。64Gb STT-MRAM則透過 DDR4介面展現高密度應用潛力,為新一代記憶體技術奠定發展基礎。
在AI加速與數位架構方面,Diffusion Model Accelerator 採用eDRAM存儲技術,進一步提升影像生成與3D運算的效率。同時,透過硬體感知演算法降低功耗並減少外部記憶體存取的新一代AI 加速器亦成為討論焦點。此外,On-Die Machine Learning Calibration技術的應用,顯示AI與機器學習在智慧手機電源管理領域的進一步發展。在電源管理技術方面,3nm FinFET Switching Converter展現出55 A/mm²的超高電流密度,而高壓BCD製程的應用則進一步減少電源分配損耗,提升GaN轉換器的效能。此外,無線供電與能量收集技術的進展,使LDO與隔離式轉換器的功率效率獲得提升。
高速通訊與RF設計技術也取得突破,212.5 Gb/s DSP PAM-4傳輸技術成功突破50dB信道損耗紀錄,而毫米波(mmWave) 與次THz收發器技術的進展,則進一步強化雷達與高速無線通訊的性能。高線性接收器的開發,使多頻段運作成為可能,並能有效抑制內外頻干擾。在生醫電子與感測技術方面,腦機介面 (BMI) 透過事件驅動尖峰偵測技術,顯著提升訊號處理效能,而3D疊層影像技術則在高動態範圍與高解析度影像應用上展現巨大潛力。此外,SPAD-LiDAR感測技術進一步優化高精度測距與影像識別應用。
量子運算與資安技術在本次會議中亦受到高度關注。Cryogenic ICs量子運算控制技術已經達到室溫運作水準,為未來量子運算系統開闢新的可能性。而PUF (Physically Unclonable Function)技術的發展,則提供了更低錯誤率的硬體認證機制。此外,Fully Homomorphic Encryption (FHE) Processor在推動多方計算應用方面的突破,也為未來的安全運算與隱私保護奠定基礎。
專題演講:The AI Era Innovation Matrix
在本屆ISSCC 2025的開幕專題演講中,Intel Foundry技術發展資深副總裁Navid Shahriari以「The AI Era Innovation Matrix」為題,深入剖析AI時代對半導體製程、封裝、電源與系統協同設計的創新需求與技術演進。他強調,面對AI訓練與推論日益龐大的運算需求,必須在晶片架構、製程節點、先進封裝與異質整合等層面同步突破,才能達成效能、功耗與可擴展性的最適平衡。Shahriari 也分享了Intel在RibbonFET、PowerVia、UCIe等關鍵技術上的最新進展,勾勒出支撐未來AI平台的創新藍圖。
圖一展示了A 訓練計算需求在過去十年間的增長趨勢,標題強調訓練計算量已經提升了100萬倍以上。圖表的Y軸為 AI 訓練計算需求(FLOP,浮點運算次數),範圍從1013到1026,而X 軸則代表時間,涵蓋2014年至2025年。投影片中特別標示了幾個關鍵AI模型,包括2014年左右的GANs(生成對抗網絡)、2018年的GPT-1,以及2024年的GPT-4o,顯示AI訓練計算需求從1017 FLOP增長至1025 FLOP。圖中的虛線顯示了AI訓練計算需求的增長趨勢……
圖一、AI 訓練計算需求在十年間的增長趨勢
圖六展示了PowerVia技術在故障隔離(Fault Isolation; FI)與除錯(Debug)方面的創新。傳統的IREM(Infrared Emission Microscopy)方法難以在高密度晶片上進行準確的故障定位,而 PowerVia引入:
• 熱信號診斷(Thermal Signals for FI)
• 電子束檢測(e-beam)
• 電晶體邏輯狀態成像(e-beam logic state imaging of transistors)
圖六、PowerVia 創新診斷技術
這些技術可提高電晶體層級的診斷準確度,對高效能計算晶片的開發與生產至關重要……
圖九展示了多項技術突破,包括:
• RibbonFET的6 nm閘極長度(業界領先)
• 首個GAA 2D電晶體,具備 <75 mV/d的亞閾值斜率
• 首個適用於高產能製造的Ru減法製程 ---上為部分節錄資料,完整內容請見下方附檔。
圖九、極限製程技術