新開發低介電率、低介電損耗之絕緣增層膜

 

刊登日期:2021/12/7
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日本太陽Holdings開發了一項適用於半導體封裝基板用途的絕緣增層膜(Build-up Film),將可望利用於大型伺服器、5G通訊網絡等高階領域。太陽Holdings透過獨家樹脂設計技術,實現了介電率3.1、介電損耗0.0013的水準。由於具有優異的電氣特性,將可抑制傳輸損失。目前絕緣增層膜材料的主要2大供應商為擁有壓倒性市佔率的味之素(Ajinomoto),以及專注於高階領域的積水化學工業,在此市場環境之下,太陽Holdings將成為新競爭對手跨入市場。

近年來5G網路、雲端運算以及疫情下對個人電腦的需求,推動絕緣增層膜市場呈現高成長。且隨著「小晶片(Chiplet)」封裝的技術趨勢,封裝基板趨於大型化,絕緣增層膜亦隨之大面積化,另在微細連接的需求之下,薄膜的層數也呈現增加傾向。雖然眾多企業看好此成長市場,但絕緣增層膜的進入門檻高,味之素、積水化學工業佔有絕大市場的局面持續。

太陽Holdings開發的絕緣增層膜的最大特徵在於低介電率(3.1~3.2)、低介電損耗(0.0013~0.0015),相對於味之素、積水化學工業等市場先驅以環氧樹脂做為基材,太陽Holdings則透過導入新樹脂設計,實現了業界最高的介電特性,目前亦已開始商業樣品推廣,將可望應用於5G通訊相關用途。


資料來源: 化學工業日報 / 材料世界網編譯
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