光電基板簡介

 

刊登日期:2004/2/20
  • 字級

本文主要簡介光電基板之發展緣由及其系統之需求,並以製程技術分類,做光波導製作及其材料的介紹,工研院電子所在此領域已完成感光性及非感光製程光電軟膜與高分子光波導製程開發,以及該光電軟膜的製作與後續壓合測試,傳輸損耗可達0.2~0.5dB/cm,並以自行開發之量測架構將光源引出做定量之插入損失量測。量測環境之建置主要針對製作完成之光波導迴路,量測其損耗,藉以驗證製程之優劣及架構之可行性,並提供量測光源及VCSEL量測環境軟硬體建置,及量測方式技術之建立,目前光源主要以850nm為主。
分享