日本花王目前正著手進行對環境友善之抗蝕薄膜( Film Resis )剝離劑的開發。在半導體業界,不僅要求半導體封裝的剝離特性,對於降低環境負荷的需求也越來越高。因此,花王以控制含氮量開發可抑制水質污濁之剝離劑,期以差別化創造市場競爭優勢。 花王目前正著手開發 2種剝離劑,其中一種適用於模擬半加成法製程(Modified Semi Additive Process;MSAP)。化學需氧量(Chemical Oxygen Demand;COD)數值為 3,000~12,000ppm,相較於現有適用於半加成法製程(Semi-Additive Process;SAP)剝離劑的 10萬~30萬ppm,新剝離劑的 COD值大幅降低。使用成本便宜亦為其優點,可對應 15µm的電路圖案。 此外,花王也正在開發不含氫氧化四甲基銨(Tetramethyl Ammnium Hydroxide;TMAH)的剝離劑。雖然 COD值為16,000~ 40,000,但因含有氮成份,剝離速度快,配線圖案可對應至 8µm。含氮量越多,剝離性能越好;相對的環境性能就會變差。目前開發中的 2種剝離劑含有苛性鉀(Caustic Potash),可取得剝離特性之平衡。 資料來源: 化學工業日報 /材料世界網編譯 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 TORAY開發出適用於混合接合之新型絕緣樹脂材料 Light-Tech EXPO、NEPCON Japan & Wearable EXPO 2017 日本東京特別... 不含硫磺的異種材料用樹脂添加劑 新型奈米銀接合膏即將量產 電子產業高密度化技術及材料 熱門閱讀 鋼鐵產業低碳製程技術發展趨勢 Ga2O3功率元件於電動車應用的發展(上) 高安全鋰電池材料與技術 固態鋰離子電池技術 聚焦二氧化碳再利用,推動脫化石資源依賴 相關廠商 金屬3D列印服務平台 大東樹脂化學股份有限公司 友德國際股份有限公司 喬越實業股份有限公司 方全有限公司 台灣永光化學股份有限公司 正越企業有限公司 誠企企業股份有限公司 桂鼎科技股份有限公司 里華科技股份有限公司 銀品科技股份有限公司