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作者單位
作者
刊登日期
「宇宙生活圈」商機,日本材料大廠加速佈局次世代太空材料
工研院材化所
2026/02/06
FLOSFIA完成氧化鎵元件用4吋晶圓量產實證
工研院材化所
2026/02/05
低成本氧化鎵晶圓新製程,成本降至10分之1
工研院材化所
2026/01/28
日本電信四巨頭在衛星直接通訊領域交鋒,D2C或將成為未來常態
工研院材化所
材網編輯室
2026/01/26
KIOXIA開發3D DRAM氧化物半導體電晶體技術,實現8層堆疊
工研院材化所
2026/01/22
太陽控股突破微細RDL製程,12吋晶圓上達成CD 1.6 µm三層結構
工研院材化所
2026/01/14
新型冷卻技術利用電場效應控制離子流,可應用於半導體晶片局部冷卻
工研院材化所
2026/01/13
《工業材料雜誌》1月刊 四十周年特刊,集結14項領域技術共同展現材料未來
工研院材化所
2026/01/05
堅韌的隱形支柱:先進陶瓷與無機半導體材料技術
工研院材化所
劉子瑜、邱國創
2026/01/05
日油推出低溫燒結銅膏,期以高熱傳導、高可靠性取代銀膏
工研院材化所
2026/01/02
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