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作者單位
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刊登日期
KIOXIA開發3D DRAM氧化物半導體電晶體技術,實現8層堆疊
工研院材化所
2026/01/22
太陽控股突破微細RDL製程,12吋晶圓上達成CD 1.6 µm三層結構
工研院材化所
2026/01/14
新型冷卻技術利用電場效應控制離子流,可應用於半導體晶片局部冷卻
工研院材化所
2026/01/13
《工業材料雜誌》1月刊 四十周年特刊,集結14項領域技術共同展現材料未來
工研院材化所
2026/01/05
堅韌的隱形支柱:先進陶瓷與無機半導體材料技術
工研院材化所
劉子瑜、邱國創
2026/01/05
日油推出低溫燒結銅膏,期以高熱傳導、高可靠性取代銀膏
工研院材化所
2026/01/02
日企透過材料零件技術,開拓光電融合未來商機
工研院材化所
材網編輯室
2025/12/01
AI帶動半導體材料市場,2030年將突破700億美元
工研院材化所
2025/11/28
低溫燒結且高密著性,ADEKA銅漿料加速車載與AI晶片應用
工研院材化所
2025/11/21
名古屋大學團隊突破昇華法摻雜與大口徑化瓶頸,試作出6吋p型SiC晶圓
工研院材化所
2025/11/14
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