下世代微影技術之進展與挑戰(下)

 

刊登日期:2010/4/5
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奈米微影技術目前進展到22 奈米技術節點之製程及機台開發,具有競爭潛力的技術為:(1).雙重圖案化浸潤式氟化氬(ArF)微影技術;(2).超紫外光微影技術;(3).奈米壓印技術;(4).多電子束直寫微影技術,以及(5).最新且熱門的光源−光罩同時最佳化計算微影技術等五類。雖然這些技術均尚在開發階段,但成熟度以第一類最高,而最後一類進展最快速。目前此五類奈米微影技術均各自有其優勢、缺點及尚待努力之處。本文將敘述各技術的進展現況及未來即將面對的嚴苛挑戰。總而言之,22奈米微影技術中目前具有經濟誘因、符合營運成本及量產成熟度的唯有「雙重圖案化浸潤式氟化氬微影技術」。


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