奈米壓印微影技術之機會與挑戰

 

刊登日期:2003/8/20
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奈米技術的進展,使得能夠在不同材料上,以奈米甚或以原子尺度之準確度製成各種奈米結構的需求日益殷切。而各式各樣的奈米製作技術也因此相繼的被積極探討與開發,奈米壓印微影技術因其只要使用單次之微影步驟,即可在大面積的晶圓基板上,以單一模具重複進行相同奈米圖樣轉移與奈米結構之製作,而被視為是在已公開可用以製作各種奈米尺度極大型集成系統(ULSI systems) 技術中,具有低成本、高產出率的潛在優勢,於未來有亮麗前景的一種技術。其應用的範圍相當廣泛,包括奈米電子、光學元件、高密度儲存裝置、奈米電磁裝置、生物裝置、傳感器及奈米機電元件等之製作。本文將對奈米壓印微影技術的發展現狀及其所面臨的各項挑戰進行探討。
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