奈米技術的進展，使得能夠在不同材料上，以奈米甚或以原子尺度之準確度製成各種奈米結構的需求日益殷切。而各式各樣的奈米製作技術也因此相繼的被積極探討與開發，奈米壓印微影技術因其只要使用單次之微影步驟，即可在大面積的晶圓基板上，以單一模具重複進行相同奈米圖樣轉移與奈米結構之製作，而被視為是在已公開可用以製作各種奈米尺度極大型集成系統(ULSI systems) 技術中，具有低成本、高產出率的潛在優勢，於未來有亮麗前景的一種技術。其應用的範圍相當廣泛，包括奈米電子、光學元件、高密度儲存裝置、奈米電磁裝置、生物裝置、傳感器及奈米機電元件等之製作。本文將對奈米壓印微影技術的發展現狀及其所面臨的各項挑戰進行探討。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 奈米尺度細線路圖案化技術介紹(上) 低溫製程奈米銅導體材料概論 軟微影製程－Soft Lithography Toray Research Center開發出奈米級半導體材料缺陷分析技術 矽基奈米元件性能提升之鑰—SiGe應力工程(下) 熱門閱讀 玻璃基板上TGV的金屬化製程 玻璃成孔技術發展現況 半導體用抗反射層材料 玻璃通孔(TGV)之電鍍銅金屬化處理及其微結構改質 半導體用光酸材料技術 相關廠商 台灣石原產業股份有限公司 金屬3D列印服務平台 山衛科技股份有限公司 喬越實業股份有限公司 正越企業有限公司 桂鼎科技股份有限公司 台灣永光化學股份有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司 大東樹脂化學股份有限公司 志宸科技有限公司