脈衝雷射鍍膜(PLD)是一創新的、多功能性的鍍膜技術，它可應用在絕大部分的單元素或化合物的非晶材料、多晶材料與磊晶材料的合成上。PLD 技術的優點還包括：薄膜的化學成分與其靶材可以幾乎完全相同；直接沉積氧化物不需事後做退火；技術相對地簡單且設備的成本不貴。世界上已有許多利用PLD 鍍膜技術合成高品質的單一、複合和多層薄膜的研究，探討薄膜的物理與化學性質，並將薄膜應用在許多尖端科技上。目前已使用PLD 合成的薄膜材料包括耐磨性保護層、金屬、半導體、絕緣體、高分子、電子材料、磁性材料、生物材料、高溫超導材料、鐵電物質與光電材料等。本文提供PLD 設備組裝及鍍膜技術的分析，包括PLD 鍍膜系統的設計；鍍膜材料的選用與其應用之領域及其適用於工業界的利基點與問題所在。特定用途之商業用PLD 鍍膜設備與製程技術已開始出現，脈衝雷射鍍膜技術將會有很大的發展潛力。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 活化反應磁控濺射沈積技術新發展 改良式電弧離子鍍膜技術 精密塗佈技術─建立新時代塑膠薄膜材料發展的關鍵技術 微波電漿製程技術與奈米粉體之應用 複合材料表面機能提升及產品應用技術 熱門閱讀 半導體用抗反射層材料 半導體用光酸材料技術 次世代EUV帶來半導體光阻開發挑戰，日化學企業加速展開新材料佈局 「10分鐘內」超急速充電技術進展有成，全固態電池最受青睞 半導體用高解析光阻劑 相關廠商 台灣石原產業股份有限公司 金屬3D列印服務平台 山衛科技股份有限公司 喬越實業股份有限公司 廣融貿易有限公司 高柏科技股份有限公司 正越企業有限公司 工研院材化所 材料世界網 桂鼎科技股份有限公司 照敏企業股份有限公司 台灣永光化學股份有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司 大東樹脂化學股份有限公司 志宸科技有限公司