高性能鍍膜雷射脈衝電弧鍍膜技術

 

刊登日期:2002/2/5
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脈衝雷射鍍膜(PLD)是一創新的、多功能性的鍍膜技術,它可應用在絕大部分的單元素或化合物的非晶材料、多晶材料與磊晶材料的合成上。PLD 技術的優點還包括:薄膜的化學成分與其靶材可以幾乎完全相同;直接沉積氧化物不需事後做退火;技術相對地簡單且設備的成本不貴。世界上已有許多利用PLD 鍍膜技術合成高品質的單一、複合和多層薄膜的研究,探討薄膜的物理與化學性質,並將薄膜應用在許多尖端科技上。目前已使用PLD 合成的薄膜材料包括耐磨性保護層、金屬、半導體、絕緣體、高分子、電子材料、磁性材料、生物材料、高溫超導材料、鐵電物質與光電材料等。本文提供PLD 設備組裝及鍍膜技術的分析,包括PLD 鍍膜系統的設計;鍍膜材料的選用與其應用之領域及其適用於工業界的利基點與問題所在。特定用途之商業用PLD 鍍膜設備與製程技術已開始出現,脈衝雷射鍍膜技術將會有很大的發展潛力。
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