凸塊(Bumping)技術在1995 年代引進台灣,以濺鍍式凸塊(Sputtered Bump)技術而言,相對於打線鍵結(Wire Bonding)的接點連結方式,其製程特色採用薄膜、黃光與蝕刻以形成層狀結構的球下金屬層(Under Bump Metallurgy; UBM)、與後續的錫合金凸塊形成製程(錫膏)或植球(預型化錫球合金凸塊),而凸塊晶片則以搭配覆晶(Flip Chip)製程為主,本文將敘述微凸塊技術的多樣化結構與發展。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 先進半導體構裝的幕後推手–新世代構裝材料技術 構裝用黏晶材料技術發展趨勢 功率模組用液態封裝材料技術 構裝用厚膜光阻材料與塗佈成型技術 先進封裝與3D IC的未來:深入解析混合接合技術 熱門閱讀 從 Battery Japan 2024看鋰電池與儲能產業發展 半導體產業廢硫酸純化再利用 化合物半導體材料市場與應用導論 碳化矽晶體成長技術發展 探索來自天際的能源,夢想中的太空太陽能發電 相關廠商 金屬3D列印服務平台 高柏科技股份有限公司 喬越實業股份有限公司 廣融貿易有限公司 山衛科技股份有限公司 正越企業有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司 照敏企業股份有限公司 台灣永光化學股份有限公司 桂鼎科技股份有限公司 大東樹脂化學股份有限公司 志宸科技有限公司