稀產金屬於10年前開始開發不純物質最小極限之結晶育成用氧化鎵 ■ 次世代半導體材料 — 氧化鎵 Ga2O3 稀產金屬致力於開發純度最佳的氧化鎵 ► 純度:99.99% Si 含量 5ppm以下 ► 純度:99.999% Si 含量 3ppm以下 ► 應用:燒結用、結晶生成等 ■ 最佳半導體靶材 — 氧化銦 In2O3 稀產金屬除了提供純度99.99%氧化銦化合物外,同時也提供如:氯化銦、硝酸銦、氫氧化銦 (廣編企劃) 更多詳細原料供應,請見: 台灣岩谷股份有限公司 https://www.iwatani.com.tw/ja-jp/about 電 話:02-2506-6955、傳 真:02-2507-2789、EMail:service@iwatani.com.tw 稀產金属株式會社 https://www.kisankinzoku.co.jp/ 電 話:+81-06-6473-5227 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 從ISPSD 2024看功率元件領域發展趨勢(上) 從ISPSD 2024看功率元件領域發展趨勢(下) EDP開發出7×7 mm以上之高濃度硼摻雜低電阻大型獨立基板 可實現線寬7.6nm半導體微細加工之高分子嵌段共聚物 探索未來科技的基石—化合物半導體引領新世代電子革命 熱門閱讀 從2024 ICEP看國際半導體先進封裝技術 交聯乙烯-醋酸乙烯酯(EVA)材料的回收再利用策略:挑戰與前景 從CHINAPLAS 2024 看橡塑材料發展現況(上) 生質聚醯亞胺發展與光阻劑應用 聚碳酸酯(PC)化學解聚與低碳環氧樹脂開發技術 相關廠商 金屬3D列印服務平台 山衛科技股份有限公司 喬越實業股份有限公司 正越企業有限公司 桂鼎科技股份有限公司 台灣永光化學股份有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司 大東樹脂化學股份有限公司 志宸科技有限公司