稀產金屬於10年前開始開發不純物質最小極限之結晶育成用氧化鎵 ■ 次世代半導體材料 — 氧化鎵 Ga2O3 稀產金屬致力於開發純度最佳的氧化鎵 ► 純度:99.99% Si 含量 5ppm以下 ► 純度:99.999% Si 含量 3ppm以下 ► 應用:燒結用、結晶生成等 ■ 最佳半導體靶材 — 氧化銦 In2O3 稀產金屬除了提供純度99.99%氧化銦化合物外,同時也提供如:氯化銦、硝酸銦、氫氧化銦 (廣編企劃) 更多詳細原料供應,請見: 台灣岩谷股份有限公司 https://www.iwatani.com.tw/ja-jp/about 電 話:02-2506-6955、傳 真:02-2507-2789、EMail:service@iwatani.com.tw 稀產金属株式會社 https://www.kisankinzoku.co.jp/ 電 話:+81-06-6473-5227 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 日本綜合化學品製造商聚焦EUV,展望半導體材料領域 奈良先端科學技術大學等開發出GAA型氧化物半導體電晶體 EDP推出1吋單晶鑽石晶圓,邁向鑽石元件實用化 晶片之戰的隱形英雄:五大半導體材料開啟自主化新時代 半導體用高解析光阻劑 熱門閱讀 玻璃基板上TGV的金屬化製程 玻璃成孔技術發展現況 半導體用抗反射層材料 玻璃通孔(TGV)之電鍍銅金屬化處理及其微結構改質 半導體用光酸材料技術 相關廠商 台灣石原產業股份有限公司 金屬3D列印服務平台 山衛科技股份有限公司 喬越實業股份有限公司 正越企業有限公司 桂鼎科技股份有限公司 台灣永光化學股份有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司 大東樹脂化學股份有限公司 志宸科技有限公司