低溫硬化之電鍍種子層用銅膏 實現新迴路製作技術

 

刊登日期:2022/12/14
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日本奧野製藥工業確立了新的銅配線迴路製作技術。新開發的可低溫硬化電鍍種子層(Seed Layer)用銅膏,可望促進在PET或PI基材上加工的可能性。奧野製藥工業以新銅膏進行印刷,並搭配獨家低應力無電解銅鍍技術,成功在薄膜基版上展現優異的電鍍析出性與密著強度。
 
以基板製造手法而言,既存的減去法(Subtractive)是經由蝕刻或除光阻劑的工程來製作迴路,後續須處理廢液、廢水。而透過印刷製作配線的手法,則是形成電鍍種子層後施以無電解銅鍍,工程相當單純,不浪費材料且減少環境負荷。
 
新開發的電鍍種子層用銅膏「OPC COPASEED SCP」改良了銅粉、樹脂、硬化劑等配方,達到120 ℃的低溫硬化,低於過去硬化處理溫度需求之160℃(60分鐘),實現於PET薄膜或PI基材施工的可行性,且不會有白濁等情況發生。印刷上相當安定可重複印刷,且以直徑2 mm的不銹鋼棒進行撓曲性測試,膜上未見裂痕。析出性優於既有製品,並無發現電鍍未析出處,不論是PET薄膜還是PI基材,在基材、銅膏、銅膏、電鍍之間都發揮良好的密著性。
 
而新開發的銅膏搭配自家既有的無電解銅鍍液「OPC COPPER HFS」後,確立了新的迴路製作技術。這款銅鍍液由於內部應力低、平滑性佳、高選擇析出性、對迴路Pattern的破壞少,兩者用於薄膜基材上,成功以加成法(Additive)製作出密著度佳的銅配線。


資料來源: 化學工業日報 / 材料世界網編譯
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