本文使用顯式時間積分之有限元素分析,探討銅導線低介電係數晶片在銲線製程,與拔線測試時的暫態結構反應。此動態分析涵蓋完整銲線製程的撞擊與超音波振動兩階段,因此銲線後的拔線測試模擬得以包含銲線製程中所引致的結構殘餘應力及應變。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 玻璃金屬化技術 無鉛噴錫板技術發展與應用重點 錫鉛銅與錫鉛鎳覆晶銲錫凸塊之電遷移現象 DIC推出新型BMI樹脂產品,拓展低介電材料市場 上野製藥開發出熱傳導率提高6倍之LCP 熱門閱讀 國際固態電路大會 ISSCC 2025:半導體發展趨勢與記憶體運算技術探討(... IEDM 2024前瞻:鐵電記憶體技術發展與半導體趨勢解析 由2025 NEPCON Japan看低碳樹脂材料與印刷電路板製程技術與應用 日本綜合化學品製造商聚焦EUV,展望半導體材料領域 原子層沉積之應用與未來發展趨勢 相關廠商 台灣石原產業股份有限公司 金屬3D列印服務平台 山衛科技股份有限公司 喬越實業股份有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司 大東樹脂化學股份有限公司 志宸科技有限公司