本文使用顯式時間積分之有限元素分析,探討銅導線低介電係數晶片在銲線製程,與拔線測試時的暫態結構反應。此動態分析涵蓋完整銲線製程的撞擊與超音波振動兩階段,因此銲線後的拔線測試模擬得以包含銲線製程中所引致的結構殘餘應力及應變。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 玻璃金屬化技術 無鉛噴錫板技術發展與應用重點 錫鉛銅與錫鉛鎳覆晶銲錫凸塊之電遷移現象 上野製藥開發出熱傳導率提高6倍之LCP 矢野經濟研究所:2026年全球半導體封裝基板材料市場達4,775億日圓 熱門閱讀 半導體用抗反射層材料 半導體用光酸材料技術 次世代EUV帶來半導體光阻開發挑戰,日化學企業加速展開新材料佈局 「10分鐘內」超急速充電技術進展有成,全固態電池最受青睞 半導體用高解析光阻劑 相關廠商 台灣石原產業股份有限公司 金屬3D列印服務平台 山衛科技股份有限公司 喬越實業股份有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司 大東樹脂化學股份有限公司 志宸科技有限公司