我們利用濺鍍技術所開發之缺氧型缺陷奈米薄膜,成功產生紅外偏移現象,並設計生物實驗加以驗證其可行性,藉由大腸桿菌的實際測試,證實缺氧型缺陷奈米薄膜只需可見光光源,抗菌率依JIS認證標準可達99.99%,抗菌效率與市售氧化鈦粉體有相近之效果,不僅改善薄膜抗菌不如粉體的缺點,更能產生足夠的自由基加以殺菌,大幅提升奈米薄膜的使用效率與範圍。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 利用光觸媒消除過濾膜之污垢阻塞問題 《工業材料雜誌》1月刊 四十周年特刊,集結14項領域技術共同展現材料... NanoAlloy Technology利用單層石墨烯奈米多孔材料,開發出高性能燃料... AIST開發奈米帶結構之二硫化鉬 北海道大學利用酵素水解作用,簡易製作出均勻粒徑之奈米粒子 熱門閱讀 從分子設計到原子級控制,半導體前段製程材料的挑戰與機會 ALD與ALE技術整合:次世代薄膜製程的挑戰 從2025日本智慧能源週看氫能技術的最新進展 日東紡開發廢太陽能板玻璃再生纖維,拓展再利用新途徑 先進電子構裝材料研究組於高頻、高導熱、封裝與高解析電子材料技術... 相關廠商 台灣石原產業股份有限公司 金屬3D列印服務平台 喬越實業股份有限公司 台灣永光化學股份有限公司 桂鼎科技股份有限公司 大東樹脂化學股份有限公司 志宸科技有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司