我們利用濺鍍技術所開發之缺氧型缺陷奈米薄膜,成功產生紅外偏移現象,並設計生物實驗加以驗證其可行性,藉由大腸桿菌的實際測試,證實缺氧型缺陷奈米薄膜只需可見光光源,抗菌率依JIS認證標準可達99.99%,抗菌效率與市售氧化鈦粉體有相近之效果,不僅改善薄膜抗菌不如粉體的缺點,更能產生足夠的自由基加以殺菌,大幅提升奈米薄膜的使用效率與範圍。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 利用光觸媒消除過濾膜之污垢阻塞問題 從ALD/ALE 2026看原子層製程新趨勢:前驅物設計與區域選擇性沉積 以AI找出最佳溶劑,實現無需超音波之CNT薄膜低成本製程 《工業材料雜誌》1月刊 四十周年特刊,集結14項領域技術共同展現材料... NanoAlloy Technology利用單層石墨烯奈米多孔材料,開發出高性能燃料... 熱門閱讀 功率半導體元件與散熱技術 寬能隙功率半導體封裝之結構設計與互連技術挑戰 功率半導體之高導熱陶瓷基板材料技術與應用發展 廢氫氟酸轉製冰晶石有價資源化技術 AI世代之次世代功率半導體產業發展 相關廠商 新加坡商英彼克有限公司台灣分公司 台灣石原產業股份有限公司 金屬3D列印服務平台 喬越實業股份有限公司 台灣永光化學股份有限公司 桂鼎科技股份有限公司 大東樹脂化學股份有限公司 志宸科技有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司