我們利用濺鍍技術所開發之缺氧型缺陷奈米薄膜,成功產生紅外偏移現象,並設計生物實驗加以驗證其可行性,藉由大腸桿菌的實際測試,證實缺氧型缺陷奈米薄膜只需可見光光源,抗菌率依JIS認證標準可達99.99%,抗菌效率與市售氧化鈦粉體有相近之效果,不僅改善薄膜抗菌不如粉體的缺點,更能產生足夠的自由基加以殺菌,大幅提升奈米薄膜的使用效率與範圍。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 利用光觸媒消除過濾膜之污垢阻塞問題 NanoAlloy Technolog利用單層石墨烯奈米多孔材料,開發出高性能燃料... AIST開發奈米帶結構之二硫化鉬 北海道大學利用酵素水解作用,簡易製作出均勻粒徑之奈米粒子 由金奈米粒子製成之彩色薄膜,可望實現半永久不褪色 熱門閱讀 半導體用抗反射層材料 半導體用光酸材料技術 次世代EUV帶來半導體光阻開發挑戰,日化學企業加速展開新材料佈局 「10分鐘內」超急速充電技術進展有成,全固態電池最受青睞 半導體用高解析光阻劑 相關廠商 台灣石原產業股份有限公司 金屬3D列印服務平台 喬越實業股份有限公司 台灣永光化學股份有限公司 桂鼎科技股份有限公司 大東樹脂化學股份有限公司 志宸科技有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司