我們利用濺鍍技術所開發之缺氧型缺陷奈米薄膜,成功產生紅外偏移現象,並設計生物實驗加以驗證其可行性,藉由大腸桿菌的實際測試,證實缺氧型缺陷奈米薄膜只需可見光光源,抗菌率依JIS認證標準可達99.99%,抗菌效率與市售氧化鈦粉體有相近之效果,不僅改善薄膜抗菌不如粉體的缺點,更能產生足夠的自由基加以殺菌,大幅提升奈米薄膜的使用效率與範圍。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 利用光觸媒消除過濾膜之污垢阻塞問題 NanoAlloy Technology利用單層石墨烯奈米多孔材料,開發出高性能燃料... AIST開發奈米帶結構之二硫化鉬 北海道大學利用酵素水解作用,簡易製作出均勻粒徑之奈米粒子 由金奈米粒子製成之彩色薄膜,可望實現半永久不褪色 熱門閱讀 國際固態電路大會 ISSCC 2025:半導體發展趨勢與記憶體運算技術探討(... IEDM 2024前瞻:鐵電記憶體技術發展與半導體趨勢解析 海洋碳捕獲崛起,更有效率且可望轉換出新經濟價值 由2025 NEPCON Japan看低碳樹脂材料與印刷電路板製程技術與應用 日本綜合化學品製造商聚焦EUV,展望半導體材料領域 相關廠商 台灣石原產業股份有限公司 金屬3D列印服務平台 喬越實業股份有限公司 台灣永光化學股份有限公司 桂鼎科技股份有限公司 大東樹脂化學股份有限公司 志宸科技有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司