新世代電子顯微鏡試片製備技術在強介電陶瓷薄膜與高儲能材料之實務應用

 

刊登日期:2004/4/5
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強介電陶瓷薄膜與高儲能材料是相當特殊的材質,要用穿透式電子顯微鏡(Transmission Electron Microscopy; TEM) 來觀察其微結構並不是件容易的事。原因在於此類試片之製備不但費時,而且困難重重。因此,對任何一個分析實驗室而言,如何去發展製備這種橫截面(Cross-Sectional)電鏡試片的新技術,就是一個大挑戰。本文中將介紹一種適用於強介電陶瓷薄膜結構Cu/BaTiO3/Cu 與鉭質高儲能電容之電子顯微鏡橫截面電鏡試片製備新技術,這技術應用於強介電陶瓷與高儲能材料而言,是一種快速、準確的新技術,其主要步驟如下:泝將樣品用空晶片貼成三明治的樣子,再用機械研磨修成3×15mm的長條狀;沴長條狀的樣品貼在研磨載具上,作第一面的研磨及第二面研磨;沊研磨好的試片貼在銅環上做減薄及清潔動作。這項技術的運用範圍相當廣泛,適用於各種多層膜且軟硬不同的界面試片。我們利用穿透電子顯微鏡展現出,這種方法製備下所展現之清晰且寬觀測區域之高品質顯微影像。
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