本實驗是利用陰極電弧(Cathodic Arc)藉由物理氣相沈積法，在具低電阻值之n 型(100)矽基板上，沈積奈米結構無晶鑽石薄膜，並能沈積均勻且大面積的奈米結構無晶鑽石。實驗所鍍之鑽石膜為高缺陷的非晶質類鑽碳膜，可使導電陰極之電子直接穿透到達鑽石膜表面，因而可降低薄膜之有效功函數（使其趨近於零）。藉著不同的製程參數來改變鑽石薄膜的表面形態，在薄膜表面獲得奈米級的無晶鑽石尖端(Nano-tips of Amorphous Diamond)，此種奈米結構能有效的增加場增強因子(β, The Field Enhancement Factor)。實驗所得具低功函數及高場增強因子之奈米結構無晶鑽石薄膜，可使場發射電流達到最高及臨界工作電壓降低。實驗結果顯示：在最低起始外加電場(Lowest Turn on Applied Field Strength)為4.6 V/μm，電流密度為10 μA/cm2 ，外加電場為11 V/μm ，在電流密度為10 mA/cm2；最小有效功函數(Effective Work Function,Φe) 為0.0296 eV；且本研究亦發現經由實驗沈積之奈米結構無晶鑽石薄膜有非常高之電子場發射再現性(High Reproducibility of Field Emission)。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 Touch Taiwan 2017 現場報導系列二 將PZT薄膜結晶化之技術 石墨烯材料發展與應用趨勢 石墨烯材料發展與應用趨勢 石墨烯的發展與應用(上) 熱門閱讀 「10分鐘內」超急速充電技術進展有成，全固態電池最受青睞 AI在化學反應優化的應用 AI在化工製程節能應用 AI於MBR系統中之品質控制與能源優化應用：以膜絲瑕疵檢測與廢水曝氣... 國際固態電路大會 ISSCC 2025：半導體發展趨勢與記憶體運算技術探討(... 相關廠商 台灣石原產業股份有限公司 金屬3D列印服務平台 山衛科技股份有限公司 高柏科技股份有限公司 喬越實業股份有限公司 正越企業有限公司 照敏企業股份有限公司 台灣永光化學股份有限公司 桂鼎科技股份有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司 大東樹脂化學股份有限公司 志宸科技有限公司