可提高手機畫質之濺鍍靶材

 

刊登日期:2014/12/29
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Tosoh所開發的透明電極膜用靶材係 ITO氧化物所組成,主要用於 Film型觸控面板,新產品的目標特性為140℃以下熱處理,片電阻值( Sheet Resistance )為 80Ω,不似傳統的 ITO偏黃,具備高透明性;另外也開發出高屈折率膜用氧化物靶材,屈折率有 1.9~2.1 用以及 2.1~2.2 用兩種,可用於調整液晶面板的透過率,以及作為防止反光膜,對於隱藏液晶面板的配線 Pattern有很大幫助,以往高屈折率膜多採用五氧化二鈮( Nb2O5 )靶材,為提高透明性通常會在濺鍍過程中加入氧,但缺點是將會拉長處理時間,針對這個問題,新靶材提高五氧化二鈮的透過率,並加快成膜速度為每分鐘 13.6nm,面板透過率調整膜將形成低屈折率膜及高屈折率膜的積層構造。

資料來源: 化學工業日報 / 材料世界網編譯
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