利用Coulomb Blockade 及Tunneling 等量子效應來操作的單電子電晶體，與現有傳統的CMOS元件相比，具有Low power 、Low Leakage 、High Density Integration 、High Accuracy 的特性，其簡單的結構與製程易於與CMOS 結合。除了一般傳統的電路與記憶體的應用外，其特有的性質可用來制定電流及電容的量子標準，這是其他方法所無法達成的。另外其量子效應提供了新式量子運算架構實現的可能性。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 單電子電晶體 奈米電子元件 矽基奈米元件性能提升之鑰—SiGe應力工程(下) 矽基奈米元件性能提升之鑰—SiGe應力工程(上) 在室溫下可實現量子輸送之2.8nm奈米碳管電晶體 熱門閱讀 Micro LED量產技術、材料與市場展望 AI系統節能減碳的推手—GaN功率元件(上) 數據驅動熱塑性彈性體數位設計 量子點墨水材料技術 從ALTA 2024看稀土及有價金屬資源萃取、應用及製程循環成果現況 相關廠商 金屬3D列印服務平台 山衛科技股份有限公司 高柏科技股份有限公司 喬越實業股份有限公司 正越企業有限公司 照敏企業股份有限公司 台灣永光化學股份有限公司 桂鼎科技股份有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司 大東樹脂化學股份有限公司 志宸科技有限公司