以低溫製作低阻抗膜之新技術

 

刊登日期:2013/12/26
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Tosoh開發出低溫下也能夠製作低阻抗薄膜之技術。新材料為電容式觸控面板用ITO(銦錫氧化物)靶材。以往製成ITO導電膜需要攝氏150度左右之高溫,而新材料則降低至攝氏130度,能夠在薄膜或液晶面板上直接形成導電膜,且可發揮高品質觸控性能,透光率也跟以往的ITO產品相當,500奈米以上的波長可透光90%以上之水準。
 
新材料可因應觸控面板薄型、輕型化與面板尺寸大型化、高精細化要求,以及用於必須使用低溫成膜之In-cell型產品上。該公司預計將以薄膜感測器、In-cell面板為中心進行銷售。
  
資料來源:化學工業日報/材料世界網編譯

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