一般而言,真空鍍膜大致上可分為兩大類:物理氣相蒸著(Physical Vapor Deposition ,簡稱PVD )及化學氣相蒸著(Chemical Vapor Deposition ,簡稱CVD )。本文將針對PVD 法中,目前正熱門的電弧離子鍍膜技術(Arc Ion Plating)做一探討。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 活化擴散硬銲再生技術(ADBR)之發展與應用 真空硬銲的原理與應用 電弧離子鍍ZrN 薄膜之性質評估 《工業材料雜誌》1月刊 四十周年特刊,集結14項領域技術共同展現材料... 可取代六價鉻電鍍且防鏽、耐磨耗之3次元陶瓷塗覆技術 熱門閱讀 循環經濟下的綠色氫能:有機廢棄物產氫技術、材料應用與永續評估 氨裂解產氫技術發展現況與趨勢 氨作為氫載體的零排放能源應用研究進展 高科技產業純水製程廢液資源化策略與技術開發 廢寶特瓶高值化突破,One-pot製程直接合成高性能MOF材料 相關廠商 新加坡商英彼克有限公司台灣分公司 台灣石原產業股份有限公司 金屬3D列印服務平台 山衛科技股份有限公司 高柏科技股份有限公司 喬越實業股份有限公司 照敏企業股份有限公司 台灣永光化學股份有限公司 桂鼎科技股份有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司 大東樹脂化學股份有限公司 志宸科技有限公司