一般而言,真空鍍膜大致上可分為兩大類:物理氣相蒸著(Physical Vapor Deposition ,簡稱PVD )及化學氣相蒸著(Chemical Vapor Deposition ,簡稱CVD )。本文將針對PVD 法中,目前正熱門的電弧離子鍍膜技術(Arc Ion Plating)做一探討。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 活化擴散硬銲再生技術(ADBR)之發展與應用 真空硬銲的原理與應用 電弧離子鍍ZrN 薄膜之性質評估 可取代六價鉻電鍍且防鏽、耐磨耗之3次元陶瓷塗覆技術 利用反射光可測量原子級以下的薄膜厚度 熱門閱讀 AI在化學反應優化的應用 AI在化工製程節能應用 AI於MBR系統中之品質控制與能源優化應用:以膜絲瑕疵檢測與廢水曝氣... 國際固態電路大會 ISSCC 2025:半導體發展趨勢與記憶體運算技術探討(... 從Sustainable Material聯合材料展看循環低碳材料發展與新技術開發 相關廠商 台灣石原產業股份有限公司 金屬3D列印服務平台 山衛科技股份有限公司 高柏科技股份有限公司 喬越實業股份有限公司 照敏企業股份有限公司 台灣永光化學股份有限公司 桂鼎科技股份有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司 大東樹脂化學股份有限公司 志宸科技有限公司