一般而言，真空鍍膜大致上可分為兩大類：物理氣相蒸著(Physical Vapor Deposition ，簡稱PVD ）及化學氣相蒸著（Chemical Vapor Deposition ，簡稱CVD ）。本文將針對PVD 法中，目前正熱門的電弧離子鍍膜技術(Arc Ion Plating)做一探討。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 活化擴散硬銲再生技術(ADBR)之發展與應用 真空硬銲的原理與應用 電弧離子鍍ZrN 薄膜之性質評估 可取代六價鉻電鍍且防鏽、耐磨耗之3次元陶瓷塗覆技術 利用反射光可測量原子級以下的薄膜厚度 熱門閱讀 從 Battery Japan 2024看鋰電池與儲能產業發展 半導體產業廢硫酸純化再利用 加氫站加氫協定之研究與未來發展趨勢 歐盟新電池法生效推動循環經濟與永續發展 化合物半導體材料市場與應用導論 相關廠商 金屬3D列印服務平台 山衛科技股份有限公司 高柏科技股份有限公司 喬越實業股份有限公司 照敏企業股份有限公司 台灣永光化學股份有限公司 桂鼎科技股份有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司 大東樹脂化學股份有限公司 志宸科技有限公司