一般而言,真空鍍膜大致上可分為兩大類:物理氣相蒸著(Physical Vapor Deposition ,簡稱PVD )及化學氣相蒸著(Chemical Vapor Deposition ,簡稱CVD )。本文將針對PVD 法中,目前正熱門的電弧離子鍍膜技術(Arc Ion Plating)做一探討。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 活化擴散硬銲再生技術(ADBR)之發展與應用 真空硬銲的原理與應用 電弧離子鍍ZrN 薄膜之性質評估 可取代六價鉻電鍍且防鏽、耐磨耗之3次元陶瓷塗覆技術 利用反射光可測量原子級以下的薄膜厚度 熱門閱讀 我國IC製造業大宗廢棄物資源化發展概況(上) 鑽石功率半導體材料,可望在電動車大放異彩 國際石化大廠在塑膠回收再利用之發展現況 全球化學產業減碳的發展方向與趨勢概論 我國IC製造業大宗廢棄物資源化發展概況(下) 相關廠商 金屬3D列印服務平台 大東樹脂化學股份有限公司 喬越實業股份有限公司 友德國際股份有限公司 桂鼎科技股份有限公司 高柏科技股份有限公司 銀品科技股份有限公司 照敏企業股份有限公司 台灣永光化學股份有限公司