一般而言，真空鍍膜大致上可分為兩大類：物理氣相蒸著(Physical Vapor Deposition ，簡稱PVD ）及化學氣相蒸著（Chemical Vapor Deposition ，簡稱CVD ）。本文將針對PVD 法中，目前正熱門的電弧離子鍍膜技術(Arc Ion Plating)做一探討。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 活化擴散硬銲再生技術(ADBR)之發展與應用 真空硬銲的原理與應用 電弧離子鍍ZrN 薄膜之性質評估 《工業材料雜誌》1月刊 四十周年特刊，集結14項領域技術共同展現材料... 可取代六價鉻電鍍且防鏽、耐磨耗之3次元陶瓷塗覆技術 熱門閱讀 先進電子構裝材料研究組於高頻、高導熱、封裝與高解析電子材料技術... 《工業材料雜誌》1月刊 四十周年特刊，集結14項領域技術共同展現材料... 從低碳循環到高值化創新應用與實踐–高分子材料產業的永續轉型推手 工業材料雜誌 40周年特刊 材料驅動產業升級，創新引領永續未來 光電有機材料及應用研究組：引領光電材料永續創新與關鍵製程發展 相關廠商 台灣石原產業股份有限公司 金屬3D列印服務平台 山衛科技股份有限公司 高柏科技股份有限公司 喬越實業股份有限公司 照敏企業股份有限公司 台灣永光化學股份有限公司 桂鼎科技股份有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司 大東樹脂化學股份有限公司 志宸科技有限公司