本研究利用液相沉積法之方式，藉由六氟鈦酸銨與硼酸混合溶液製備二氧化鈦抗反射薄膜於6吋多晶矽基板上，並將此抗反射薄膜應用於太陽電池上。液相沉積法為低溫製程、具選擇性沉積、大面積生產、薄膜成分容易調整，以及可批次量產等優點。在最佳製程條件下，其平均反射率在波長範圍400~900 nm為5.94%，而二氧化鈦抗反射薄膜應用於6吋多晶矽太陽電池上，其光電轉換效率可達15.92%。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 從Intersolar Europe 2025看太陽能產業發展與應用 採用脒基保護膜之鈣鈦礦太陽電池，兼具高轉換效率與長壽命 利用奈米結晶開發氧化矽保護膜，可望促進次世代矽系太陽電池開發 東北大學成功實現硫化錫薄膜n型化，可望促進不含有害元素之薄膜太陽... 大面積鈣鈦礦薄膜技術發展 熱門閱讀 功率半導體元件與散熱技術 寬能隙功率半導體封裝之結構設計與互連技術挑戰 功率半導體之高導熱陶瓷基板材料技術與應用發展 廢氫氟酸轉製冰晶石有價資源化技術 AI世代之次世代功率半導體產業發展 相關廠商 新加坡商英彼克有限公司台灣分公司 台灣石原產業股份有限公司 金屬3D列印服務平台 喬越實業股份有限公司 廣融貿易有限公司 高柏科技股份有限公司 正越企業有限公司 山衛科技股份有限公司 台灣永光化學股份有限公司 大東樹脂化學股份有限公司 志宸科技有限公司 桂鼎科技股份有限公司 照敏企業股份有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司