本研究利用液相沉積法之方式,藉由六氟鈦酸銨與硼酸混合溶液製備二氧化鈦抗反射薄膜於6吋多晶矽基板上,並將此抗反射薄膜應用於太陽電池上。液相沉積法為低溫製程、具選擇性沉積、大面積生產、薄膜成分容易調整,以及可批次量產等優點。在最佳製程條件下,其平均反射率在波長範圍400~900 nm為5.94%,而二氧化鈦抗反射薄膜應用於6吋多晶矽太陽電池上,其光電轉換效率可達15.92%。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 採用脒基保護膜之鈣鈦礦太陽電池,兼具高轉換效率與長壽命 利用奈米結晶開發氧化矽保護膜,可望促進次世代矽系太陽電池開發 東北大學成功實現硫化錫薄膜n型化,可望促進不含有害元素之薄膜太陽... 大面積鈣鈦礦薄膜技術發展 東京大學合成出移動率130 cm2/V-s之氧化錫單結晶薄膜,可望提升太陽... 熱門閱讀 廢氫氟酸資源高值化技術(上) 從ISPSD 2024看功率元件領域發展趨勢(上) 下世代產業所需高功能性新材料—電動車用高分子材料 從2024 IFAT看環保技術之現況與趨勢(上) 從ISPSD 2024看功率元件領域發展趨勢(下) 相關廠商 金屬3D列印服務平台 喬越實業股份有限公司 廣融貿易有限公司 高柏科技股份有限公司 正越企業有限公司 山衛科技股份有限公司 台灣永光化學股份有限公司 大東樹脂化學股份有限公司 志宸科技有限公司 桂鼎科技股份有限公司 照敏企業股份有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司