本研究利用液相沉積法之方式，藉由六氟鈦酸銨與硼酸混合溶液製備二氧化鈦抗反射薄膜於6吋多晶矽基板上，並將此抗反射薄膜應用於太陽電池上。液相沉積法為低溫製程、具選擇性沉積、大面積生產、薄膜成分容易調整，以及可批次量產等優點。在最佳製程條件下，其平均反射率在波長範圍400~900 nm為5.94%，而二氧化鈦抗反射薄膜應用於6吋多晶矽太陽電池上，其光電轉換效率可達15.92%。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 採用脒基保護膜之鈣鈦礦太陽電池，兼具高轉換效率與長壽命 利用奈米結晶開發氧化矽保護膜，可望促進次世代矽系太陽電池開發 東北大學成功實現硫化錫薄膜n型化，可望促進不含有害元素之薄膜太陽... 大面積鈣鈦礦薄膜技術發展 東京大學合成出移動率130 cm2/V-s之氧化錫單結晶薄膜，可望提升太陽... 熱門閱讀 玻璃基板上TGV的金屬化製程 玻璃成孔技術發展現況 玻璃通孔(TGV)之電鍍銅金屬化處理及其微結構改質 半導體用抗反射層材料 半導體用光酸材料技術 相關廠商 台灣石原產業股份有限公司 金屬3D列印服務平台 喬越實業股份有限公司 廣融貿易有限公司 高柏科技股份有限公司 正越企業有限公司 山衛科技股份有限公司 台灣永光化學股份有限公司 大東樹脂化學股份有限公司 志宸科技有限公司 桂鼎科技股份有限公司 照敏企業股份有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司