范淑櫻 編譯
展望2025年半導體市場的擴大，日本綜合化學品製造商亦將經營資源集中在半導體材料領域。尤其是隨著半導體趨於微細化，極紫外光(EUV)曝光相關之材料開發與市場投入將更加活躍。
三井化學、住友化學、三菱化學集團等3家企業為因應石化事業的業績下滑，紛紛將半導體材料定位為下一個事業成長支柱。然而，其他日本企業在半導體晶片製造必需之感光材料等半導體材料領域擁有高市占率，因此綜合化學品製造商的存在感較為薄弱。2025年將會是考驗綜合化學品製造商在半導體領域能展現出多大程度實力的一年。
從低迷的石化事業逆勢而起
對於綜合化學品製造商而言，2024年為其石化事業逆風的一年。隨著中國大陸石化產能大幅躍升，化學品供應過剩且流向亞洲地區，以致市場狀況惡化。經手石化事業的日本綜合化學品製造商亦因輸出遇困境而遭受重創，由於此情勢短期內難以緩解，各家企業紛紛將石化事業從成長領域中撤出，並在摸索產業內重組的同時，推動合理化改革。
在企業支柱的石化事業陷入衰退之際，各家企業亦愈加期待半導體材料能成為填補此一衰退的新成長事業。目前以達成先進半導體代工製造為目標的日本Rapidus於2025年開始試作產線的稼働，另有許多其他半導體工廠的營運亦計劃於2025年後展開。日本政府也計畫在2030年前於半導體、人工智慧領域投入10兆日圓以上的預算，欲以舉國之力支持半導體發展。
三大綜合化學品製造商將此視為機遇，並在半導體材料領域設定了雄心勃勃的目標，其中三井化學揭示了2030年度半導體相關事業的核心營業收益提高至2024年度約2.5倍的目標。住友化學也計畫在2030年將半導體材料銷售額由目前的1,000億日圓提升至2.5倍，三菱化學集團則設定了2029年將銷售額由目前的700億日圓提升至1.5倍的目標(表一) ……
CNT做為次世代EUV曝光設備保護膜
EUV光罩護膜(Pellicle)為先進半導體所用EUV曝光設備光罩上的薄膜，可保護光罩免於微塵或揮發性氣體的污染，俾使EUV順利傳輸，同時也是EUV曝光時的關鍵零件。三井化學在此領域處於領先地位，並欲採取早期推出次世代產品的策略，以獲取其他企業無法比擬的競爭優勢。
三井化學與荷蘭EUV曝光設備製造商ASML關係密切，並獲得ASML授權，於2021年率先全球在山口縣工廠展開EUV光罩護膜的商業化生產。換言之，欲製造先進半導體的全球各大企業都依賴於唯一的EUV曝光設備製造商ASML，而在ASML的認可之下，三井化學投入的開發即處於有利地位……
圖一、三井化學開發EUV曝光設備用CNT光罩護膜
另一方面，日本黏著紙製造大廠LINTEC亦展開了CNT光罩護膜的開發，且計畫在2025年度內建立超過三井化學、年產1萬片CNT光罩護膜的量產體制(圖二)。對此，三井化學表示，投入CNT光罩護膜開發薄膜已10年，對市場有著深刻的理解，且結合比利時imec的技術，對於品質有自信凌駕於其他企業之上。EUV技術目前使用於邏輯應用，預期未來將拓展至記憶體應用，因此三井化學也計劃擴大旗下一般EUV光罩薄膜的數量……
以有機低分子EUV光阻展開攻勢
住友化學積極投入次世代EUV用半導體光阻劑的開發，且在其2025~2030年間展開總計3,000億日圓的戰略投資計畫中，半導體材料將是首要標的。目前在光阻劑領域，JSR、東京應化工業、信越化學工業等5家日本企業握有全球大部分的市占率，住友化學亦為其中一角。日新月異的技術更迭，驅動著一代又一代的產品翻新，進而有可能 …以上為部分節錄資料，完整內容請見下方附檔。