本文回顧傳統光學顯微鏡及掃描式近場光學顯微鏡的發展,並介紹工研院材化所電漿子技術實驗室自行架設的多波長散射式掃描近場光學顯微鏡原理與架構,其空間解析可突破繞射極限,達10nm,且可量測樣品在不同波長雷射照射下的近場光學行為,提供樣品地貌與近場光學特性的直接對應資訊。對於奈米結構的光學特性、微區材料分辨、電漿子光學等應用有相當大的助益。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 表面增強拉曼散射光譜的發展與應用 奈米金屬顆粒在薄膜光伏特元件的應用 電漿子共振技術的應用與發展 奈米壓痕測試技術及其特殊應用 日本Nanotech 2006國際奈米展---檢測分析開發相關之參觀報導 熱門閱讀 半導體產業廢硫酸純化再利用 化合物半導體材料市場與應用導論 碳化矽晶體成長技術發展 探索來自天際的能源,夢想中的太空太陽能發電 新穎5G軟性基板材料開發與應用 相關廠商 金屬3D列印服務平台 高柏科技股份有限公司 喬越實業股份有限公司 廣融貿易有限公司 正越企業有限公司 山衛科技股份有限公司 志宸科技有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司 照敏企業股份有限公司 台灣永光化學股份有限公司 桂鼎科技股份有限公司 大東樹脂化學股份有限公司