日本高知工科大學與住友重機械工業、Rigaku共同開發出兼具透明性與導電性的氧化鋅薄膜製造技術。研究團隊透過對離子化後的鋅、鎵及氧施加適當的電場，使生成的氧化鋅沉積於玻璃基板上，成功製作出厚度僅10奈米的薄膜。此項可在工業規模下製作10奈米厚氧化鋅薄膜的技術亦為全球首例，未來可望應用於太陽電池、半導體元件電極，以及須具備耐輻射特性的太空設備等用途。
此次研究中，高知工科大學負責薄膜製程設計與成膜實驗，住友重機負責設備開發，Rigaku則以X光繞射技術進行薄膜分析。研究團隊透過改良住友重機銷售的反應性電漿蒸鍍法(Reactive Plasma Deposition; RPD)設備，已可製作面積超過50 × 50公分、厚度10奈米的氧化鋅薄膜，具備量產潛力。
新技術的核心在於將原料離子化後，利用電場提供相當於數十萬度高溫反應所需的能量，在低溫條件下促進氧化鋅生成。研究團隊並將氧氣噴射至基板時的電場條件予以最佳化，降低氣體在基板表面的反射損失，同時確保反應能量充足，使基板表面產生活性氧，大幅提升氧化鋅生成效率，最終可在約200℃環境下形成10奈米薄膜。既有氧化鋅薄膜製程中，結晶內部容易產生氧原子缺陷，造成電性失衡並降低導電性。為解決此問題，須提高基板表面的氧化鋅生成效率與薄膜緻密度。
若採非離子化製程，通常須將基板加熱至500℃以上才能反應，不僅耗能高，也因需大量氧氣導致原料成本增加，高溫環境亦會加速設備熱劣化，提高維護與更換成本。新技術則兼顧低溫、高品質及量產性，可望突破透明導電膜產業化瓶頸。