日本長瀨產業推動半導體顯影劑-氫氧化四甲基銨(TMAH)的回收利用，透過運用其在顯示器方面的專業經驗，將此材料以更高的純度應用於半導體領域。該技術能將廢液量減少至原有的5~10分之1，大幅減少溫室氣體(GHG)排放。預計先在日本國內導入，應用於i-line、氟化氪(KrF)用途，並考慮進一步拓展至海外市場。隨著日本國內半導體工廠數量的增加，預計在2025年前期展開顧客端的實證測試。
半導體用TMAH的回收再利用由長瀨產業與Nagase ChemteX、Sachem共同展開，並透過合資成立的SN Tech於東大阪基地建置實證工廠，為實用化作準備。首先將從多家客戶收集廢液以做為部分原料，長期目標則是建立僅使用再生材料的循環系統。
SN Tech基於長瀨產業的液體淨化(回收)技術，約自15年前展開顯示器顯影用TMAH的回收，且已在日本達到標準化利用，在海外亦擁有良好實績。在半導體用途方面，此技術預期可適用於i-line、KrF，未來亦可望擴及氟化氬(ArF)領域。
全球半導體市場規模預估將從目前的6,000億美元，於2030年擴大至1兆美元，並在2040年後達到2兆美元，以長期來看，產量將會持續增加。另一方面，由於上游石化產品的產能有限，長瀨產業表示此情況與當年顯示器生產急增的情況類似。顯影液中的TMAH濃度通常為2.38%，且經過洗淨水稀釋，因此長瀨產業認為透過濃縮、減少廢棄物處理，將可對環境做出重大貢獻。
今後長瀨產業將在日本國內推動循環再利用系統的建置，且隨著半導體製造領域的投資不斷增加，目前回收需求也已出現。長瀨產業認為，普及的課題在於回收設備的設置，並將爭取綠色補助金等支持。未來將進一步擴展至亞洲圈等大規模半導體製造區域。