隨著科技日新月異的發展，鍍膜技術亦不斷的演變進化，從原先的電阻熱蒸鍍技術，發展至今的高密度電弧電漿離子鍍膜技術等，都是因應著各種薄膜應用的需求而衍生出來。直流電弧離子鍍膜技術在市場上受到極大的重視，而脈衝式直流電源供應器在直流電弧離子鍍膜技術上被廣泛的應用。脈衝電壓的施加，基材上離子的暫態電流亦隨之增加，因此在沉積薄膜的過程中，所產生之粒子到達基材的數量就會受到偏壓大小的影響。本文將介紹如何利用高密度電弧電漿離子鍍膜技術，搭配脈衝偏壓電源供應器，沉積銦錫氧化物(Indium Tin Oxide; ITO)薄膜。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 不需光阻材料之新透明導電材料 精密塗佈技術的操控與展望 拭目可撓顯示器破風起航(上) 從第一屆關西高功能膜展看膜材發展新趨勢(上) 新型透明導電薄膜材料技術簡介 熱門閱讀 Micro LED量產技術、材料與市場展望 AI系統節能減碳的推手—GaN功率元件(上) 數據驅動熱塑性彈性體數位設計 量子點墨水材料技術 從ISPSD 2024看功率元件領域發展趨勢(上) 相關廠商 金屬3D列印服務平台 山衛科技股份有限公司 喬越實業股份有限公司 廣融貿易有限公司 高柏科技股份有限公司 正越企業有限公司 桂鼎科技股份有限公司 工研院材化所 材料世界網 照敏企業股份有限公司 台灣永光化學股份有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司 大東樹脂化學股份有限公司 志宸科技有限公司