隨著科技日新月異的發展，鍍膜技術亦不斷的演變進化，從原先的電阻熱蒸鍍技術，發展至今的高密度電弧電漿離子鍍膜技術等，都是因應著各種薄膜應用的需求而衍生出來。直流電弧離子鍍膜技術在市場上受到極大的重視，而脈衝式直流電源供應器在直流電弧離子鍍膜技術上被廣泛的應用。脈衝電壓的施加，基材上離子的暫態電流亦隨之增加，因此在沉積薄膜的過程中，所產生之粒子到達基材的數量就會受到偏壓大小的影響。本文將介紹如何利用高密度電弧電漿離子鍍膜技術，搭配脈衝偏壓電源供應器，沉積銦錫氧化物(Indium Tin Oxide; ITO)薄膜。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 不需光阻材料之新透明導電材料 精密塗佈技術的操控與展望 拭目可撓顯示器破風起航(上) 從第一屆關西高功能膜展看膜材發展新趨勢(上) 新型透明導電薄膜材料技術簡介 熱門閱讀 浸沒式冷卻液技術及特性檢測平台 從 Battery Japan 2024看鋰電池與儲能產業發展 鈣鈦礦太陽能電池大面積塗佈技術與發展趨勢 聚苯乙烯化學回收苯乙烯單體技術現狀 聚碳酸酯(PC)化學回收 相關廠商 金屬3D列印服務平台 山衛科技股份有限公司 喬越實業股份有限公司 廣融貿易有限公司 高柏科技股份有限公司 正越企業有限公司 桂鼎科技股份有限公司 工研院材化所 材料世界網 照敏企業股份有限公司 台灣永光化學股份有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司 大東樹脂化學股份有限公司 志宸科技有限公司