隨著科技日新月異的發展,鍍膜技術亦不斷的演變進化,從原先的電阻熱蒸鍍技術,發展至今的高密度電弧電漿離子鍍膜技術等,都是因應著各種薄膜應用的需求而衍生出來。直流電弧離子鍍膜技術在市場上受到極大的重視,而脈衝式直流電源供應器在直流電弧離子鍍膜技術上被廣泛的應用。脈衝電壓的施加,基材上離子的暫態電流亦隨之增加,因此在沉積薄膜的過程中,所產生之粒子到達基材的數量就會受到偏壓大小的影響。本文將介紹如何利用高密度電弧電漿離子鍍膜技術,搭配脈衝偏壓電源供應器,沉積銦錫氧化物(Indium Tin Oxide; ITO)薄膜。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 不需光阻材料之新透明導電材料 精密塗佈技術的操控與展望 拭目可撓顯示器破風起航(上) 從第一屆關西高功能膜展看膜材發展新趨勢(上) 新型透明導電薄膜材料技術簡介 熱門閱讀 國際固態電路大會 ISSCC 2025:半導體發展趨勢與記憶體運算技術探討(... IEDM 2024前瞻:鐵電記憶體技術發展與半導體趨勢解析 海洋碳捕獲崛起,更有效率且可望轉換出新經濟價值 由2025 NEPCON Japan看低碳樹脂材料與印刷電路板製程技術與應用 日本綜合化學品製造商聚焦EUV,展望半導體材料領域 相關廠商 台灣石原產業股份有限公司 金屬3D列印服務平台 山衛科技股份有限公司 喬越實業股份有限公司 廣融貿易有限公司 高柏科技股份有限公司 正越企業有限公司 桂鼎科技股份有限公司 工研院材化所 材料世界網 照敏企業股份有限公司 台灣永光化學股份有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司 大東樹脂化學股份有限公司 志宸科技有限公司