電漿束配向(Plasma Beam Alignment)的最原始概念來自於前蘇聯時期的太空近程(Close Drift)推進技術，在美蘇兩國冷戰時期，蘇聯積極發展衛星科技，在衛星動力控制的嚴苛要求下，開發出陽極層推進器(Anode Layer Thruster; ALT)概念。電漿束配向則是近兩年提出的新構想，試圖以此非接觸式(Non-contact)配向方式取代現有刷磨式(Rubbing)配向，直接瞄準未來七代線，作為大尺寸液晶配向的主流技術。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 從2010 FINETECH JAPAN、2010 LIGHTING JAPAN、2010 FilmTech JAPAN看高功能膜與次世代照明發展趨勢(下) 光配向技術及其應用 光配向技術 電漿束液晶配向技術 視訊用新型液晶配向技術 熱門閱讀 軟性電子產品及透明PI材料發展趨勢 電池研究超前部署—全固態鈉二氧化碳電池 生質可分解塑膠發展概況 高速高頻時代來臨–低介電損耗絕緣材料發展現況 電動車電池系統結構整合創新概念：從Cell新規格設計到元件整合 相關廠商 台灣大金先端化學股份有限公司 昂筠國際股份有限公司 名揚翻譯有限公司 金屬3D列印服務平台 大東樹脂化學股份有限公司 東海青科技股份有限公司 喬越實業股份有限公司 台灣鑽石工業股份有限公司 科邁斯科技股份有限公司 照敏企業股份有限公司 台灣永光化學股份有限公司 高柏科技股份有限公司 銀品科技股份有限公司 里華科技股份有限公司