電漿束配向(Plasma Beam Alignment)的最原始概念來自於蘇聯太空近程推進(Close Drift)技術。在美蘇兩國冷戰時期，蘇聯積極發展衛星科技，在衛星動力控制的嚴苛要求下，開發出陽極層推進器概念(Anode Layer Thruster; ALT)。電漿束配向則是近兩年提出的新構想，試圖以此非接觸式(Non-contact)配向方式取代現有刷磨式配向，直接瞄準未來七代線，作為大尺寸液晶配向的主流技術。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 從2010 FINETECH JAPAN、2010 LIGHTING JAPAN、2010 FilmTech JAPAN... 技術簡介與發展現況 光配向技術及其應用 光配向技術 視訊用新型液晶配向技術 熱門閱讀 半導體用抗反射層材料 半導體用光酸材料技術 次世代EUV帶來半導體光阻開發挑戰，日化學企業加速展開新材料佈局 「10分鐘內」超急速充電技術進展有成，全固態電池最受青睞 半導體用高解析光阻劑 相關廠商 台灣石原產業股份有限公司 金屬3D列印服務平台 高柏科技股份有限公司 喬越實業股份有限公司 山衛科技股份有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司 台灣永光化學股份有限公司 大東樹脂化學股份有限公司 志宸科技有限公司