覆晶銲錫凸塊之電性及電遷移效應探討

 

刊登日期:2004/8/20
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隨著電子產品效能與功能的提升,銲錫凸塊的間距與尺寸亦逐漸縮小,因此流經其上的電流密度相對升高,於是電遷移效應將會是影響銲錫凸塊可靠性的關鍵因素之一。以高階元件而言,例如微處理器,其晶片上之銲錫凸塊通常是由高熔點的5Sn-95Pb與基板上的63Sn-37Pb相互接合。此種製程方式最大好處在於可以利用63Sn-37Pb的低熔點特性,在較低的溫度將晶片與有機基板做接合,以便降低成本。然而一般文獻上對此類型之銲錫組合的電遷移效應探討並不多見。因此,本研究將針對5Sn-95Pb/63Sn-37Pb之銲錫凸塊的電遷移行為作一完整的探討。
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