常壓冷電漿，顧名思義，係在常壓狀態下所產生的低溫電漿，它不需在真空下操作，可以節省龐大的真空設備費及維護費，也不必浪費時間在抽真空上面。產生常壓冷電漿所需要的設備簡單而且容易更改，可適用於連續式的生產操作，與其它生產設備能連貫在一起，形成生產線。而且其電漿密度也比在真空狀態下所產生的低溫電漿大，因此在效率及成本上都比低壓電漿更具競爭性。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 類鑽薄膜材料技術應用發展 類鑽薄膜材料技術與應用發展 材料微波處理技術及其應用 帶動工業技術巨大革新的電漿表面處理技術 電漿表面處理在生醫材料上之應用 熱門閱讀 從專利分析看Micro-LED全球趨勢(上) 半絕緣碳化矽晶圓發展現況 從SID 2018觀察全球顯示器產業新興技術發展動向(下) 從SID 2018觀察全球顯示器產業新興技術發展動向(上) 高頻通訊用半導體基板材料發展現況 相關廠商 金屬3D列印服務平台 大東樹脂化學股份有限公司 名揚翻譯有限公司 華錦光電科技股份有限公司 高柏科技有限公司 銀品科技股份有限公司 友德國際股份有限公司 桂鼎科技股份有限公司 里華科技股份有限公司 喬越實業有限公司 廣融貿易有限公司 台灣鑽石工業股份有限公司 科邁斯科技股份有限公司 方全有限公司 照敏企業股份有限公司 台灣永光化學股份有限公司 正越企業有限公司 誠企企業股份有限公司